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1. (WO2003067626) SPECTROMETRIE DE MASSE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/067626    N° de la demande internationale :    PCT/GB2003/000312
Date de publication : 14.08.2003 Date de dépôt international : 27.01.2003
CIB :
H01J 49/10 (2006.01)
Déposants : MICROSAIC SYSTEMS LIMITED [GB/GB]; 8 Clifford Street, London W1S 2LQ (GB) (Tous Sauf US).
SYMS, Richard [GB/GB]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : SYMS, Richard; (GB)
Mandataire : MOORE, Barry; Hanna Moore & Curley, 135 Westhall Road, Warlingham, Surrey CR6 9HJ (GB)
Données relatives à la priorité :
0202665.6 05.02.2002 GB
Titre (EN) MASS SPECTROMETRY
(FR) SPECTROMETRIE DE MASSE
Abrégé : front page image
(EN)A method of fabricating miniature quadrupole electrostatic mass filter has been previously described. The electrodes are metallised cylinders, mounted in grooves etched in oxidised silicon substrates, which are held apart at the correct spacing by cylindrical spacer rods. This invention concerns an ion source mounted on extensions of the spacer rods, which project beyond the mass filter. The ion source consists of a cold−cathode electron emitter, which emits electrons with energies sufficient to cause impact ionisation, and electrostatic optics suitable for coupling the ion flux into the mass filter. Methods of constructing a single self−aligned electron source and a similar dual source are described. Arrangements for mounting the electron source and the ion coupling lens so that the electron and ion beams travel at right angles to one another for efficient separation are described. A method of fabricating a self−aligned one−dimensional einzel electrostatic lens from metallised cylinders mounted in the silicon substrates using etched grooves is described. A method of fabricating a−self−aligned two−dimensional einzel lens from metal plates is also described.
(FR)Selon l'invention, un procédé antérieur de fabrication d'un filtre de masse électrostatique quadrupolaire miniaturisé a été décrit. Les électrodes sont des cylindres métallisés, montés dans des sillons gravés dans des substrats de silicium oxydés, séparés d'une distance appropriée par des barreaux d'espacement cylindriques. La présente invention concerne une source d'ions montée sur des extensions des barreaux d'espacement qui prolongent le filtre de masse. La source d'ions comprend un émetteur électronique à cathode froide, qui émet des électrons dont l'énergie est suffisante pour provoquer une ionisation par choc; un dispositif optique électrostatique pouvant coupler de manière appropriée le flux ionique à l'intérieur du filtre de masse. L'invention concerne des procédés de construction d'une source d'électrons unique auto-alignée et d'une double source similaire. Elle concerne aussi des dispositifs servant à monter la source d'électrons et la lentille de couplage ionique de sorte que les faisceaux électronique et ionique se déplacent à angles droits l'un relativement à l'autre pour une séparation efficace. L'invention concerne également un procédé de fabrication d'une lentille électrostatique einzel unidimensionnelle auto-alignée à partir de cylindres métallisés montés dans les substrats en silicium utilisant des sillons gravés. L'invention concerne en outre un procédé de fabrication d'une lentille einzel bidimensionnelle auto-alignée à partir de plaques métalliques.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)