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1. (WO2003067332) DERIVES SULFONATES ET LEUR UTILISATION COMME ACIDES LATENTS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/067332    N° de la demande internationale :    PCT/EP2003/000821
Date de publication : 14.08.2003 Date de dépôt international : 28.01.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    15.07.2003    
CIB :
C07C 323/66 (2006.01), C07C 381/00 (2006.01)
Déposants : CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC. [CH/CH]; Klybeckstrasse 141, CH-4057 Basel (CH) (Tous Sauf US).
MATSUMOTO, Akira [JP/CH]; (CH) (US Seulement).
YAMATO, Hitoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ASAKURA, Toshikage [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MURER, Peter [CH/CH]; (CH) (US Seulement)
Inventeurs : MATSUMOTO, Akira; (CH).
YAMATO, Hitoshi; (JP).
ASAKURA, Toshikage; (JP).
MURER, Peter; (CH)
Représentant
commun :
CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.; Patentabteilung, Klybeckstrasse 141, CH-4057 Basel (CH)
Données relatives à la priorité :
02405082.5 06.02.2002 EP
Titre (EN) SULFONATE DERIVATIVES AND THE USE THEROF AS LATENT ACIDS
(FR) DERIVES SULFONATES ET LEUR UTILISATION COMME ACIDES LATENTS
Abrégé : front page image
(EN)Chemically amplified photoresist compositions comprising, (a) a compound which cures upon the action of an acid or a compound whose solubility is increased upon the action of an acid; and (b) a compound of the formula (Ia), (Ib), (IIa), (IIb), (IIIa), (IIIb), (Iva), (Ivb), (Va), (Vb) or (VIa), wherein n is 1 or 2; m is 0 or 1; X0 is −[CH2]h−X or −CH=CH2; h is 2, 3, 4, 5 or 6; R1 when n is 1, is for example optionally substituted phenyl, naphthyl, anthracyl, phenanthryl, or heteroaryl; R1, when n is 2, is for example optionally substituted phenylene or naphthylene; R2 for example has one of the meanings of R1; X is for example −OR20, −NR21R22, −SR23; X' is −X1−A3−X2−; X1 and X2 are for example −O−, −S− or a direct bond; A3 is e.g. phenylene; R3 has for example one of the meanings given for R1; R4 has for example one of the meaning given for R2; R5 and R6 e.g. are hydrogen; G i.a. is −S− or −O−; R7 when n is 1, e.g. is phenyl, optionally substituted, when n is 2, is for ex­ample phenylene; R8 and R9 e.g. are C1−C18alkyl; R10 has one of the meanings given for R7; R11 i.a. is C1−C18alkyl; R12, R13, R14, R15 R16, R17 and R18 for example are hydrogen or C1−­C18alkyl; R20, R21, R22 and R23 i.a. are phenyl or C1−C18alkyl; give high resolution with good resist profile.
(FR)La présente invention concerne des compositions pour photorésines chimiquement amplifiées. Elles comprennent, d'une part (a) un composé durcissant sous l'action d'un acide ou d'un composé dont la solubilité est augmentée par l'action d'un acide, et d'autre part (b) un composé représenté par les formules (Ia), (Ib), (IIa), (IIb), (IIIa), (IIIb), (Iva), (Ivb), (Va), (Vb) ou (VIa). Dans ces formules, n vaut 1 ou 2; m vaut 0 ou 1; X0 est -[CH2]h-X ou -CH=CH2; h est 2, 3, 4, 5 ou 6; pour n = 1, R1 est phényle, naphtyle, anthracyle, phénantryle, ou hétéroaryle éventuellement substitué; pour n = 2, R1 est phénylène ou naphtylène éventuellement substitué; R2 a l'une des significations de R1; X est -OR20, -NR21R22, -SR23; X' est -X1-A3-X2-; X1 et X2 sont -O-, -S- ou une liaison directe; A3 est phénylène; R3 a l'une des significations de R1; R4 a l'une des significations de R2; R5 et R6 sont hydrogène; G est essentiellement -S- ou -O-; pour n = 1, R7 est phényle éventuellement substitué, et pour n = 2, il est phénylène; R8 et R9 sont C1-C18 alkyle; R10 a l'une des significations de R7; R11 est essentiellement C1-C18 alkyle; R12, R13, R14, R15, R16, R17 et R18 sont hydrogène ou C1-C18 alkyle; R20, R21, R22 et R23 sont essentiellement phényle ou C1-C18 alkyle. Ces compositions se distinguent par une résolution élevée pour un bon profil de la photorésine.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)