WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2003067182) PROCEDE DE MESURE D'INTERFERENCE DIFFERENTIELLE ET INTERFEROMETRE DIFFERENTIEL, PROCEDE DE PRODUCTION D'UN SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION, SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION, ET SYSTEME D'EXPOSITION PAR PROJECTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/067182    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/000897
Date de publication : 14.08.2003 Date de dépôt international : 30.01.2003
CIB :
G01B 9/02 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-Chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP) (Tous Sauf US).
LIU, Zhigiang [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : LIU, Zhigiang; (JP)
Mandataire : FURUYA, Fumio; Dai2 Meiho Bldg., 9th Floor, 19-5, Nishishinjuku 1-Chome, Shinjuku-ku, Tokyo 160-0023 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-030413 07.02.2002 JP
2002-221765 30.07.2002 JP
Titre (EN) SHEARING INTERFERENCE MEASURING METHOD AND SHEARING INTERFEROMETER, PRODUCTION METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM
(FR) PROCEDE DE MESURE D'INTERFERENCE DIFFERENTIELLE ET INTERFEROMETRE DIFFERENTIEL, PROCEDE DE PRODUCTION D'UN SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION, SYSTEME OPTIQUE DE PROJECTION, ET SYSTEME D'EXPOSITION PAR PROJECTION
Abrégé : front page image
(EN)A shearing interference measuring method capable of measuring without being affected by disturbance and aberration on a light source side. The shearing interference measuring method comprises the steps of dividing a measuring light flux output from a light source to produce two light fluxes having their wave fronts deviated from each other, projecting those two light fluxes with their wave fronts deviated onto an inspection subject, and detecting interference fringe occurring at a position at which the wave fronts of the two light fluxes passed through the inspection subject overlap each other.
(FR)L'invention concerne un procédé de mesure d'interférence différentielle permettant de mesurer les interférences sans que les mesures soient affectées par des perturbations et par une aberration sur un côté de source lumineuse. Ce système consiste: à diviser une sortie de flux lumineux à partir d'une source lumineuse, de sorte à produire deux flux lumineux dont les fronts d'onde sont déviés l'un par rapport à l'autre; à projeter ces deux flux lumineux à fronts d'onde déviés sur un sujet à examiner; et à détecter la frange d'interférences apparaissant à un endroit où les fronts d'onde des deux flux lumineux traversant le sujet à examiner se chevauchent.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)