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1. (WO2003066932) PROCEDE DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR INDUIT PAR EFFLUVE SUR UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/066932    N° de la demande internationale :    PCT/US2003/003057
Date de publication : 14.08.2003 Date de dépôt international : 03.02.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    12.08.2003    
CIB :
B05D 7/24 (2006.01), C23C 16/40 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01), C23C 16/503 (2006.01), C23C 16/509 (2006.01), C23C 16/54 (2006.01)
Déposants : DOW GLOBAL TECHNOLOGIES INC. [US/US]; Washington Street, 1790 Building, Midland, MI 48674 (US) (Tous Sauf US).
GABELNICK, Aaron, M. [US/US]; (US) (US Seulement).
FOX, Richard, T. [US/US]; (US) (US Seulement).
HU, Ing-Feng [US/US]; (US) (US Seulement).
DINEGA, Dmitry, P. [RU/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : GABELNICK, Aaron, M.; (US).
FOX, Richard, T.; (US).
HU, Ing-Feng; (US).
DINEGA, Dmitry, P.; (US)
Mandataire : WILLIS, Reid, S.; The Dow Chemical Company, Intellectual Property, P.O. Box 1967, Midland, MI 48641-1967 (US)
Données relatives à la priorité :
60/354,905 05.02.2002 US
60/408,640 06.09.2002 US
Titre (EN) CORONA-GENERATED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION ON A SUBSTRATE
(FR) PROCEDE DE DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR INDUIT PAR EFFLUVE SUR UN SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)A process for creating plasma polymerized deposition on a substrate by a corona discharge is described. The corona discharge is created between an electrode and a counterelectrode supporting a substrate. A mixture of a balance gas and a working gas is flowed rapidly through the electrode, plasma polymerized by corona discharge, and deposited onto the substrate as an optically clear coating. The process, which is preferably carried out at or near atmospheric pressure, can be designed to create an optically clear powder-free or virtually powder free deposit that provides a substrate with properties such as surface modification, chemical resistance, and barrier to gases.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant d'obtenir un dépôt par polymérisation plasma sur un substrat, par effluve. L'effluve est obtenue entre une électrode et une contre-électrode servant de support à un substrat. Le procédé consiste à faire circuler rapidement un mélange formé par un gaz vecteur et un gaz de travail par l'électrode, à le soumettre à une polymérisation plasma par effluve, puis à le déposer sur le substrat sous forme de revêtement transparent. Le procédé, qui est mis en oeuvre, de préférence, à une pression égale ou sensiblement égale à la pression atmosphérique, permet d'obtenir un dépôt transparent totalement ou sensiblement exempt de poudre formant un substrat possédant certaines propriétés, telles que des propriétés de modification de surface, de résistance chimique et de barrière contre les gaz.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)