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1. (WO2003066693) PHOTO-INITIATEURS FLUORES DANS DES MONOMERES HAUTEMENT FLUORES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/066693    N° de la demande internationale :    PCT/EP2003/000818
Date de publication : 14.08.2003 Date de dépôt international : 28.01.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    22.07.2003    
CIB :
C08F 20/24 (2006.01)
Déposants : CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC. [CH/CH]; Klybeckstrasse 141, CH-4057 Basel (CH) (Tous Sauf US).
BAUDIN, Gisèle [CH/CH]; (CH) (US Seulement).
JUNG, Tunja [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : BAUDIN, Gisèle; (CH).
JUNG, Tunja; (DE)
Représentant
commun :
CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.; Klybeckstrasse 141, CH-4057 Basel (CH)
Données relatives à la priorité :
02405071.8 04.02.2002 EP
Titre (EN) FLUORINATED PHOTOINITIATORS IN HIGHLY FLUORINATED MONOMERS
(FR) PHOTO-INITIATEURS FLUORES DANS DES MONOMERES HAUTEMENT FLUORES
Abrégé : front page image
(EN)The invention provides photopolymerizable compositions comprising (A) at least one ethylenically unsaturated photopolymerizable fluocarbon compound selected from polyfluoroalkyl monoacrylates, polyfluoroalkyl monomethacrylatesor polyfluoroalkyl­diacrylates and (B) at least one photoinitiator of the formula (I) R is a radical of the formula (II) s is a number of 1 to 4, r is a number of 1 to 2; Y is a single bond or is a divalent linker group A if s is 1, is a radical A0, where A0 is C1−C3oalkyl, C1−C30alkenyl, C1−C30alkynyl or C1−C30aralkyl the radicals being substituted by at least two fluorine atoms and optionally further substituted by OH−, C1−C4alkoxy−, phenyl−, naphthyl−, halogen−, CN−, SR7−, NR8R9− and/or −O(CO)R10−; and the radical A0 is uninterrupted or interrupted by one or more −O−, −S− or −NR12−; A if s is > 1, is a radical A1; where A1 is C1−C30alkylene, C1−C3oalkenylene, Cl−C3oalkynylene or C1−C30aralkylene, the radicals being substituted by at least two fluorine atoms and optionally further substituted by OH−, C1−C4alkoxy−, phenyl−, naphthyl−, halogen−, CN−, SR7−, NR8R9− and/or −O(CO)R10−; and the radical A1 is uninterrupted or interrupted by one or more −0−, −S− or −NR12−.
(FR)La présente invention concerne des compositions photopolymérisables comprenant (A) au moins un composé fluorocarboné photopolymérisable éthyléniquement insaturé, choisi parmi des monoacrylates de polyfluoroalkyle, des monométhacrylates de polyfluoroalkyle ou des diacrylates de polyfluoroalkyle et (B) au moins un photo-initiateur de formule (I), dans laquelle R représente un radical de formule (II) ou, par exemple, phényle, s représente un nombre allant de 1 à 4, r représente un nombre allant de 1 à 2, Y représente une liaison simple ou un groupe de liaison bivalent, A représente, si s vaut 1, un radical A0, où A0 représente alkyle C1-C30, alcényle C1-C30, alcynyle C1-C30 ou aralkyle C1-C30, les radicaux étant substitués par au moins deux atomes de fluor et également éventuellement substitués par OH-, alkoxy C1-C4-, phényle-, naphtyle-, halogène-, CN-, SR7-, NR8R9- et/ou -O(CO)R10- et le radical A0 étant ininterrompu ou interrompu par un ou plusieurs -O-, -S- or -NR12-, A représente, si s > 1, un radical A1, où A1 représente alkylène C1-C30, alcénylène C1-C30, alcynylène Cl-C30 ou aralkylène C1-C30, les radicaux étant substitués par au moins deux atomes de fluor et également éventuellement substitués par OH-, alkoxy C1-C4-, phényle-, naphtyle-, halogène-, CN-, SR7-, NR8R9- et/ou -O(CO)R10- et le radical A1 étant ininterrompu ou interrompu par un ou plusieurs -O-, -S- or -NR12-.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)