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1. (WO2003066690) RESINE D'ACETAL DE POLYVINYLE ET PROCEDE DE PRODUCTION DE CETTE RESINE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/066690    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/001327
Date de publication : 14.08.2003 Date de dépôt international : 07.02.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    26.06.2003    
CIB :
C08F 8/28 (2006.01), C08F 16/38 (2006.01), C09D 129/14 (2006.01)
Déposants : DENKI KAGAKU KOGYO KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 4-1, Yuraku-cho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8455 (JP) (Tous Sauf US).
MASHIKO, Yoshihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAWANISHI, Toshiaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUNAGA, Koichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TSUZUKI, Manabu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUOTO, Kazumasa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
GOTO, Koki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
WATANABE, Hitoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MASHIKO, Yoshihiro; (JP).
KAWANISHI, Toshiaki; (JP).
MATSUNAGA, Koichi; (JP).
TSUZUKI, Manabu; (JP).
MATSUOTO, Kazumasa; (JP).
GOTO, Koki; (JP).
WATANABE, Hitoshi; (JP)
Mandataire : SENMYO, Kenji; Torimoto Kogyo Bldg., 38, Kanda-Higashimatsushitacho, Chiyoda-ku, Tokyo 101-0042 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-30487 07.02.2002 JP
2002-147345 22.05.2002 JP
2003-6019 14.01.2003 JP
2003-6020 14.01.2003 JP
Titre (EN) POLYVINYLACETAL RESIN AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) RESINE D'ACETAL DE POLYVINYLE ET PROCEDE DE PRODUCTION DE CETTE RESINE
Abrégé : front page image
(EN)A particulate polyvinylacetal resin of low metal content, being excellent in transparency, moisture resistance and electrical resistance, and having a large specific area, and a process for producing the same. A particulate polyvinylacetal resin of 60 mol% or more acetalization degree,1.50 to 3.50 m2/g specific surface area, 0.12 to 0.19 g/cm3 bulk density, 0.5 to 2.5 μm average particle diameter and 80 ppm or less metal content is obtained by reacting polyvinyl alcohol and an aldehyde in the presence of an acid catalyst. In particular, the particulate polyvinylacetal resin is produced for example, by feeding a reaction fluid containing polyvinyl alcohol, an aldehyde and an acid catalyst into a first reactor, carrying out an acetalization reaction until an acetalization degree of 10 to 60 mol%, discharging the reaction mixture, feeding the same into a second reactor and performing further reaction until the acetalization degree of polyvinylacetal resin is 65 mol% or higher.
(FR)L'invention concerne une résine d'acétal de polyvinyle particulaire présentant une faible teneur en métal, d'excellentes propriétés en termes de transparence, de résistance à l'humidité et de résistance électrique et possédant une surface spécifique élevée. L'invention concerne en outre un procédé de production de cette résine. Selon l'invention, on peut obtenir une résine d'acétal de polyvinyle particulaire présentant un degré d'acétalisation supérieur ou égal à 60 % en moles, une surface spécifique comprise entre 1,5 et 3,5 m2/g, une densité apparente comprise entre 0,12 et 0,19 g/cm3, un diamètre moyen de particules situé entre 0,5 et 2,5 $g(m)m et une teneur en métal inférieure ou égale à 80 ppm en faisant réagir de l'alcool polyvinylique avec un aldéhyde en présence d'un catalyseur acide. En particulier, cette résine d'acétal de polyvinyle particulaire peut être produite par un procédé consistant à acheminer un fluide réactionnel contenant de l'alcool polyvinylique, un aldéhyde et un catalyseur acide dans un premier réacteur, à réaliser une réaction d'acétalisation jusqu'à obtention d'un degré d'acétalisation compris entre 10 et 60 % en moles, à évacuer le mélange réactionnel et à l'acheminer dans un second réacteur pour y effectuer une nouvelle réaction jusqu'à obtention d'un degré d'acétalisation de la résine d'acétal de polyvinyle supérieur ou égal à 65 % en moles.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)