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1. (WO2003065386) PROCEDE PERMETTANT DE FORMER UN FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT, LEDIT FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT, SUBSTRAT DE VERRE COMPORTANT LEDIT FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT ET UNITE DE TRANSDUCTION PHOTOELECTRIQUE COMPRENANT LEDIT SUBSTRAT DE VERRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/065386    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/000707
Date de publication : 07.08.2003 Date de dépôt international : 27.01.2003
CIB :
C03C 17/00 (2006.01), C03C 17/245 (2006.01), C03C 17/34 (2006.01), C23C 16/40 (2006.01), C23C 16/54 (2006.01), H01L 31/18 (2006.01)
Déposants : NIPPON SHEET GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 7-28, Kitahama 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 541-8559 (JP) (Tous Sauf US).
KANEKA CORPORATION [JP/JP]; 2-4, Nakanoshima 3-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 530-8288 (JP) (Tous Sauf US).
FUJISAWA, Akira [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KIYOHARA, Koichiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HIRATA, Masahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ICHIKI, Kiyotaka [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAWADA, Toru [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUJISAWA, Akira; (JP).
KIYOHARA, Koichiro; (JP).
HIRATA, Masahiro; (JP).
ICHIKI, Kiyotaka; (JP).
SAWADA, Toru; (JP)
Mandataire : KAMADA, Koichi; 7th Fl., TOMOE MARION BLDG., 4-3-1, Nishitenma, Kita-ku,, Osaka-shi, Osaka 530-0047 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-18365 28.01.2002 JP
Titre (EN) METHOD OF FORMING TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, GLASS SUBSTRATE HAVING THE SAME AND PHOTOELECTRIC TRANSDUCTION UNIT INCLUDING THE GLASS SUBSTRATE
(FR) PROCEDE PERMETTANT DE FORMER UN FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT, LEDIT FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT, SUBSTRAT DE VERRE COMPORTANT LEDIT FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT ET UNITE DE TRANSDUCTION PHOTOELECTRIQUE COMPRENANT LEDIT SUBSTRAT DE VERRE
Abrégé : front page image
(EN)A method of forming a transparent conductive film constituted mainly of tin oxide on a glass ribbon according to the generally known online CVD process, wherein a transparent conductive film of low carbon content, namely, low absorption coefficient at 400 to 550 nm wavelength is formed while preventing the generation of giant crystal grains of tin oxide. In particular, a method of forming a transparent conductive film constituted mainly of tin oxide on a glass ribbon according to the CVD process, wherein a transparent conductive film is formed at a film formation rate of 3000 to 7000 nm/min from a feed gas containing an organotin compound in an amount of 0.5 to 2.0 mol%.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant de former un film conducteur transparent constitué principalement d'oxyde d'étain appliqué sur un ruban de verre conformément au processus de dépôt chimique en phase vapeur en ligne généralement connu. Ce procédé consiste à former un film conducteur transparent à faible teneur en carbone et notamment à faible coefficient d'absorption à une longueur d'onde comprise entre 400 et 550 nm, tout en empêchant la génération de grains cristallins géants d'oxyde d'étain. D'une manière plus spécifique, l'invention concerne un procédé permettant de former un film conducteur transparent constitué principalement d'oxyde d'étain appliqué sur un ruban de verre conformément au processus de dépôt chimique en phase vapeur, ce procédé consistant à former un film conducteur transparent à un taux de formation de film compris entre 3000 et 7000 nm/min à partir d'un gaz d'alimentation contenant un composé organostannique dans une quantité comprise entre 0,5 et 2,0 % en mole.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)