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1. (WO2003064744) FILS POSSEDANT UN DPF ELEVE ET UNE RESISTANCE ACCRUE A LA FATIGUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/064744    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/002751
Date de publication : 07.08.2003 Date de dépôt international : 29.01.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    24.07.2003    
CIB :
D02G 3/48 (2006.01)
Déposants : HONEYWELL INTERNATIONAL INC. [US/US]; 101 Columbia Road, PO Box 2245, Morristown, NJ 07962 (US) (Tous Sauf US).
RIM, Peter [US/US]; (US) (US Seulement).
KIANI, Farangis [FR/FR]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : RIM, Peter; (US).
KIANI, Farangis; (US)
Mandataire : FESSENMAIER, Martin; Rutan & Tucker, LLP, 611 Anton Blvd., PO Box 1950, Costa Mesa, CA 92626 (US)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) HIGH-DPF YARNS WITH IMPROVED FATIGUE
(FR) FILS POSSEDANT UN DPF ELEVE ET UNE RESISTANCE ACCRUE A LA FATIGUE
Abrégé : front page image
(EN)A product comprises a dimensionally stable polymeric multifilament yarn having a decitex per fiber count DPF of at least 7.5 and a fatigue strength retention FR, wherein preferred yarns are spun and drawn such that FR increases when DPF increases. Particularly preferred yarns are fabricated from poly(ethylene terephthalate) and have a DPF
(FR)L'invention concerne un produit qui comprend un fil multifilament polymère à stabilité dimensionnelle possédant un nombre de décitex par fibre (DPF) égal à au moins 7,5 et présentant une conservation des propriétés de résistance à la fatigue (FR), les fils étant de préférence filés et étirés de telle sorte qu'une augmentation du DPF entraîne une augmentation de la FR. Idéalement, les fils sont fabriqués à partir de poly(éthylène téréphtalate) et possèdent un DPF compris entre 10 et 20.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)