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1. (WO2003064720) PROCEDE DE DEPOT DE COUCHES DE CARBONE DEPOURVUES DE METAL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/064720    N° de la demande internationale :    PCT/EP2003/000844
Date de publication : 07.08.2003 Date de dépôt international : 28.01.2003
CIB :
C23C 14/02 (2006.01), C23C 14/06 (2006.01)
Déposants : FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. [DE/DE]; Leonrodstrasse 54, 80636 München (DE) (Tous Sauf US).
BEWILOGUA, Klaus [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WITTORF, Ralf [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
THOMSEN, Helge [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : BEWILOGUA, Klaus; (DE).
WITTORF, Ralf; (DE).
THOMSEN, Helge; (DE)
Mandataire : EINSEL, Martin; Einsel & Kollegen, Jasperallee 1a, 38102 Braunschweig (DE)
Données relatives à la priorité :
102 03 730.2 30.01.2002 DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUR ABSCHEIDUNG VON METALLFREIEN KOHLENSTOFFSCHICHTEN
(EN) METHOD FOR DEPOSITING METAL-FREE CARBON LAYERS
(FR) PROCEDE DE DEPOT DE COUCHES DE CARBONE DEPOURVUES DE METAL
Abrégé : front page image
(DE)Ein Verfahren zur Abscheidung von metallfreien amorphen wasserstoffhaltigen Kohlenstoffschichten arbeitet mit dem Sputtern von Targets auf Substrate. Als Target wird ein reines Kohlenstoff-Target, insbesondere ein Graphit-Target eingesetzt und mit einer negativen Gleichspannung vorgespannt. Auch das Substrat wird bevorzugt mit Gleichstrom versorgt. Es wird bevorzugt in der unbalancierten Magnetronbetriebsart gearbeitet. Dadurch ist die Herstellung von metallfreien DLC-Schichten mit hohen Verschleiss- und Härtewerten möglich.
(EN)The invention relates to a method for depositing metal-free, amorphous, hydrogenous carbon layers, according to which substrates are sputtered by targets. A pure carbon target, especially a graphite target, is used as a target and is biased by a negative direct-current voltage. Preferably, the substrate is also supplied with a direct-current. The inventive method is preferably carried out using the unbalanced magnetron mode of operation, enabling metal-free DLC layers to be produced with a high wear rate and a high hardness value.
(FR)La présente invention concerne un procédé permettant le dépôt de couches de carbone amorphes contenant de l'hydrogène et dépourvues de métal. Ledit procédé fait intervenir la pulvérisation cathodique de cibles sur des substrats. En tant que cible est utilisée une cible de carbone pur, notamment une cible de graphite, une tension continue négative étant préalablement appliquée à ladite cible. Le substrat est également parcouru de préférence par un courant continu. Le procédé fonctionne de préférence dans le mode de fonctionnement au magnétron non équilibré. Ceci permet la réalisation de couches de carbone-diamant (diamond like carbon / DLC) dépourvues de métal ayant des valeurs de résistance à l'usure et de dureté élevées.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)