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1. (WO2003064343) PROCEDE DE FORMATION D'UN FILM MINCE TRANSPARENT, FILM MINCE TRANSPARENT AINSI OBTENU, ET SUBSTRAT TRANSPARENT COMPORTANT UN FILM MINCE TRANSPARENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/064343    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/000963
Date de publication : 07.08.2003 Date de dépôt international : 31.01.2003
CIB :
C03C 17/22 (2006.01), C03C 17/245 (2006.01), C03C 17/34 (2006.01)
Déposants : NIPPON SHEET GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 7-28, Kitahama 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 541-8559 (JP) (Tous Sauf US).
OTANI, Tsuyoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HIRATA, Masahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : OTANI, Tsuyoshi; (JP).
HIRATA, Masahiro; (JP)
Mandataire : KAMADA, Koichi; 7th Fl., TOMOE MARION BLDG., 4-3-1, Nishitenma, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 530-0047 (JP)
Données relatives à la priorité :
2002-23304 31.01.2002 JP
Titre (EN) METHOD FOR FORMING TRANSPARENT THIN FILM, TRANSPARENT THIN FILM FORMED BY THE METHOD AND TRANSPARENT SUBSTRATE WITH TRANSPARENT THIN FILM
(FR) PROCEDE DE FORMATION D'UN FILM MINCE TRANSPARENT, FILM MINCE TRANSPARENT AINSI OBTENU, ET SUBSTRAT TRANSPARENT COMPORTANT UN FILM MINCE TRANSPARENT
Abrégé : front page image
(EN)A method for forming a transparent thin film by the chemical vapor phase growth method using a gaseous raw material ,which comprises forming a transparent thin film comprising at least one element selected from carbon (C) and oxygen (O), nitrogen (N), hydrogen (H), and silicon (Si) at a film forming speed of 8 nm/s or more. The method allows the formation of a transparent thin film which is less prone to exfoliation from a substrate due to the relaxation of the tensile stress therein and exhibits high transmissivity in the region of visible lights on a glass ribbon in a float bath.
(FR)L'invention concerne un procédé de formation d'un film mince transparent selon le procédé de dépôt chimique en phase vapeur, au moyen d'une matière première gazeuse, consistant à former un film mince transparent comprenant au moins un élément choisi à partir de : carbone (C) et oxygène (O), azote (N), hydrogène (H) et silicium (Si), à une vitesse de formation du film égale ou supérieure à 8 nm/s. Le procédé permet de former un film mince transparent moins enclin à l'exfoliation à partir d'un substrat, en raison de la relaxation des contraintes de tension, et présentant une haute transmissivité dans la région de la lumière visible sur un ruban de verre dans un bain flottant.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)