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1. (WO2003064168) PLAQUE POUR IMPRESSION OFFSET ET PROCEDE DE FABRICATION DE CETTE PLAQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/064168    N° de la demande internationale :    PCT/IB2002/003368
Date de publication : 07.08.2003 Date de dépôt international : 20.08.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    26.03.2003    
CIB :
B41N 1/00 (2006.01), B41N 1/08 (2006.01), B41N 1/20 (2006.01), B41N 3/03 (2006.01)
Déposants : PLANCHAS Y PRODUCTOS PARA OFFSET LITHOPLATE, S.A. [ES/ES]; Trabajo 26, 08980 SANT FELIU DE LLOBREGAT (ES) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NE, NL, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW only).
ARELLANO GONZALEZ, Juan, Francisco [ES/ES]; (ES) (US Seulement).
HERNANDEZ LA MATA, Juan [ES/ES]; (ES) (US Seulement)
Inventeurs : ARELLANO GONZALEZ, Juan, Francisco; (ES).
HERNANDEZ LA MATA, Juan; (ES)
Mandataire : PONTI SALES, Adelaida; Oficina Ponti, Consell de Cent 322, E-08007 Barcelona (ES)
Données relatives à la priorité :
200200189 29.01.2002 ES
Titre (EN) PLATE FOR OFFSET PRINTING AND METHOD FOR MANUFACTURING SAID PLATE
(FR) PLAQUE POUR IMPRESSION OFFSET ET PROCEDE DE FABRICATION DE CETTE PLAQUE
Abrégé : front page image
(EN)The plate includes an electrochemically anodisable metallic support of a thickness of 0.1-0.6 mm, carrying on one of its side a ceramic film of multilayer structure. The plate has greater hydrophillicity, resistance to chemical oxidation and to mechanical abrasion, and a lower surface tension that those of the prior art. The method comprises a first step in a bath containing sodium, potassium, ammonium or calcium borates, chlorides, carbonates and/or nitrates or forming mixed salts with elements of groups IIIB, IVB and VB, in a proportion of 5-40 % by weight in relation to the total of the solution, at 20-60 °C, 5-20 kC/m?2¿ and 50-250 V; and a second step in a bath containing sodium, potassium or lithium phosphates, silicates and/or carbonates, in a proportion of 1-35 % by weight in relation to the total of the solution, at 20-70 °C, 5-25 kC/m?2¿ and 150-400 V.
(FR)L'invention concerne une plaque à support métallique pouvant être soumis à une anodisation électrochimique, d'épaisseur comprise entre 0,1 et 0,6 mm, qui porte sur un de ses côtés un film en céramique à structure multicouche. Par rapport à l'état antérieur de la technique, cette plaque présente un caractère hydrophile plus marqué, une résistance supérieure à l'oxydation chimique et à l'abrasion mécanique, et une tension superficielle inférieure. Le procédé décrit comprend deux étapes. Premièrement, bain à chlorures, carbonates et/ou nitrates de sodium, de potassium, d'ammonium ou de calcium, ou bain à formation de sels mixtes avec des éléments appartenant aux groupes IIIB, IVB et VB, selon une proportion comprise entre 5 et 40 %, en poids, par rapport à l'ensemble de la solution, aux conditions suivantes: 20-60 °C, 5-20 kC/m2 et 50-250 V. Deuxièmement, bain à phosphates, silicates et/ou carbonates de sodium, de potassium ou de lithium, selon une proportion comprise entre 1 et 35 %, en poids, par rapport à l'ensemble de la solution, aux conditions suivantes: 20-70 °C, 5-25 kC/m2 et 150-400 V.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)