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1. WO2003025646 - PROCEDE D'APODISATION D'UN RESEAU DE DIFFRACTION DE GUIDE D'ONDE PLANAIRE

Numéro de publication WO/2003/025646
Date de publication 27.03.2003
N° de la demande internationale PCT/US2002/027819
Date du dépôt international 29.08.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 04.04.2003
CIB
G02B 6/02 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
6Guides de lumière; Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage
02Fibres optiques avec revêtement
G02B 6/12 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
6Guides de lumière; Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage
10du type guide d'ondes optiques
12du genre à circuit intégré
G02B 6/122 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
6Guides de lumière; Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage
10du type guide d'ondes optiques
12du genre à circuit intégré
122Elements optiques de base, p.ex. voies de guidage de la lumière
G02B 6/124 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
6Guides de lumière; Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage
10du type guide d'ondes optiques
12du genre à circuit intégré
122Elements optiques de base, p.ex. voies de guidage de la lumière
124Lentilles géodésiques ou réseaux intégrés
G02B 6/138 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
6Guides de lumière; Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage
10du type guide d'ondes optiques
12du genre à circuit intégré
13Circuits optiques intégrés caractérisés par le procédé de fabrication
138en utilisant la polymérisation
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G02B 2006/1219
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides
10of the optical waveguide type
12of the integrated circuit kind
12166Manufacturing methods
1219Polymerisation
G02B 6/02033
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides
02Optical fibre with cladding ; with or without a coating
02033Core or cladding made from organic material, e.g. polymeric material
G02B 6/02138
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides
02Optical fibre with cladding ; with or without a coating
02057comprising gratings
02076Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
02123characterised by the method of manufacture of the grating
02133using beam interference
02138based on illuminating a phase mask
G02B 6/02152
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides
02Optical fibre with cladding ; with or without a coating
02057comprising gratings
02076Refractive index modulation gratings, e.g. Bragg gratings
02123characterised by the method of manufacture of the grating
02152involving moving the fibre or a manufacturing element, stretching of the fibre
G02B 6/1221
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides
10of the optical waveguide type
12of the integrated circuit kind
122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
1221made from organic materials
G02B 6/124
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides
10of the optical waveguide type
12of the integrated circuit kind
122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
124Geodesic lenses or integrated gratings
Déposants
  • E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY [US]/[US]
Inventeurs
  • ELDADA, Louay
Mandataires
  • SIEGEL, Barbara, C.
Données relatives à la priorité
09/952,20114.09.2001US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHOD FOR APODIZING A PLANAR WAVEGUIDE GRATING
(FR) PROCEDE D'APODISATION D'UN RESEAU DE DIFFRACTION DE GUIDE D'ONDE PLANAIRE
Abrégé
(EN)
A method for making an apodized Bragg grating in a photosensitive, planar, linear waveguide. A photosensitive, planar, linear waveguide (4) is provided on a surface of a substrate (2). A patterned phase mask (6) is placed between the waveguide and a laser beam (8). The waveguide is exposed through the phase mask to the laser beam wherein either the laser beam is moving at a substantially constant velocity with respect to the substrate and phase mask, or the substrate and phase mask are moving at a substantially constant velocity with respect to the laser beam. The beam has a smoothly varying intensity profile, and the exposure is conducted at an angle of more than 0 and less than 90 (degrees) to the longitudinal axis of the waveguide under conditions sufficient to induce a modulation in the index of refraction of the waveguide and impart an apodized Bragg grating in the waveguide corresponding to the phase mask pattern.
(FR)
L'invention concerne un procédé de production d'un réseau de Bragg apodisé dans un guide d'onde planaire linéaire photosensible. Un guide d'onde planaire linéaire photosensible (4) est disposé sur une surface d'un substrat (2). Un masque de phase à motifs (6) est placé entre le guide d'onde et un faisceau laser (8). Le guide d'onde est exposé au faisceau laser, à travers le masque de phase, si bien que, soit le faisceau laser se déplace à une vitesse sensiblement constante relativement au substrat et au masque de phase, soit le substrat et le masque de phase se déplacent à une vitesse sensiblement constante relativement au faisceau laser. Le faisceau présente un profil d'intensité variant de façon régulière, et l'exposition est effectuée selon un angle supérieur à 0 et inférieur à 90 (degrés) relativement à l'axe longitudinal du guide d'onde dans des conditions propres à induire une modulation dans l'indice de réfraction du guide d'onde, et à imprimer dans le guide d'onde un réseau de Bragg apodisé correspondant au dessin du masque de phase.
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