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1. WO2003023462 - PRODUCTION DE DONNEES DE MOTIF DEPOURVUES DE TOUT CHEVAUCHEMENT OU DE TOUTE SEPARATION EXCESSIVE DES MOTIFS DE POINTS ADJACENTS LES UNS AUX AUTRES

Numéro de publication WO/2003/023462
Date de publication 20.03.2003
N° de la demande internationale PCT/JP2002/009012
Date du dépôt international 05.09.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 05.09.2002
CIB
G02B 5/10 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5Eléments optiques autres que les lentilles
08Miroirs
10à surfaces courbes
G03F 1/68 2012.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
68Procédés de préparation non couverts par les groupes G03F1/20-G03F1/50105
G02F 1/1335 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
FDISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
13basés sur des cristaux liquides, p.ex. cellules d'affichage individuelles à cristaux liquides
133Dispositions relatives à la structure; Excitation de cellules à cristaux liquides; Dispositions relatives aux circuits
1333Dispositions relatives à la structure
1335Association structurelle de cellules avec des dispositifs optiques, p.ex. des polariseurs ou des réflecteurs
CPC
G02B 5/10
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
08Mirrors
10with curved faces
G02F 1/133553
GPHYSICS
02OPTICS
FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
1Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
01for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
13based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
1333Constructional arrangements; ; Manufacturing methods
1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
133553Reflecting elements
G03F 1/00
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
1Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
Déposants
  • NEC CORPORATION [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • NEC LCD TECHNOLOGIES, LTD. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • KANOH, Hiroshi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • SUZUKI, Teruaki [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • KANOH, Hiroshi
  • SUZUKI, Teruaki
Mandataires
  • KANEDA, Nobuyuki
Données relatives à la priorité
2001-27216507.09.2001JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) GENERATION OF PATTERN DATA FREE FROM ANY OVERLAPPING OR EXCESSIVE SEPARATION OF DOT PATTERNS ADJACENT TO EACH OTHER
(FR) PRODUCTION DE DONNEES DE MOTIF DEPOURVUES DE TOUT CHEVAUCHEMENT OU DE TOUTE SEPARATION EXCESSIVE DES MOTIFS DE POINTS ADJACENTS LES UNS AUX AUTRES
Abrégé
(EN)
A device for generating pattern data of concaves and convexes arrayed at random on a surface, for example, of a reflecting substrate of a reflective liquid crystal display device. The number of coordinates, the basic pitch, the movable range, and the dot diameter are input from a data input unit. An array generation unit arrays the basic coordinate of the number of coordinates at the basic pitch regularly in a two−dimensional manner. A coordinate displacement unit generates a large number of displacement coordinates by displacing at least a part of the basic coordinats at random within a movable range. A pattern generation unit arranges the dot pattern of the dot diameter input in each generated displacement coordinate to generate the pattern data.
(FR)
La présente invention concerne un dispositif qui permet de produire des données de motif de formes concaves ou convexes dispersées de façon aléatoire sur une surface, par exemple sur la surface d'un substrat réfléchissant de dispositif d'affichage à cristaux liquides réfléchissant. Selon l'invention, on entre dans une unité d'entrée de données le nombre de coordonnées, le pas de base, la plage de déplacement et le diamètre des points. Une unité de production de matrice dispose en deux dimensions les coordonnées de base du nombre de coordonnées de façon régulière selon le pas de base. Une unité de déplacement de coordonnées produit un grand nombre de coordonnées de déplacement en déplaçant au moins une partie des coordonnées de base de façon aléatoire à l'intérieur d'une plage de déplacement. Une unité de production de motifs agence le motif de points du diamètre de points entré dans chaque coordonnée de déplacement afin de produire des données de motif.
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