Traitement en cours

Veuillez attendre...

Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. WO2003019597 - DISPOSITIF CATHODIQUE

Numéro de publication WO/2003/019597
Date de publication 06.03.2003
N° de la demande internationale PCT/IB2002/003482
Date du dépôt international 28.08.2002
CIB
H01J 1/312 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
1Détails des électrodes, des moyens de commande magnétiques, des écrans, ou du montage ou de l'espacement de ces éléments, communs au moins à deux types de base de tubes ou lampes à décharge
02Electrodes principales
30Cathodes froides
312ayant un champ électrique perpendiculaire à la surface, p.ex. cathodes à effet tunnel du type Métal-Isolant-Métal (MIM)
H01J 9/02 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
9Appareils ou procédés spécialement adaptés à la fabrication de tubes à décharge électrique, de lampes à décharge électrique ou de leurs composants; Récupération de matériaux à partir de tubes ou de lampes à décharge
02Fabrication des électrodes ou des systèmes d'électrodes
CPC
B82Y 10/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
10Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
H01J 1/312
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
1Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
02Main electrodes
30Cold cathodes, e.g. field-emissive cathode
312having an electric field perpendicular to the surface, e.g. tunnel-effect cathodes of Metal-Insulator-Metal [MIM] type
H01J 9/022
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
9Apparatus or processes specially adapted for the manufacture ; , installation, removal, maintenance; of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
02Manufacture of electrodes or electrode systems
022of cold cathodes
Déposants
  • ELEMENT SIX (PTY) LTD [ZA]/[ZA] (AllExceptUS)
  • PRINS, Johan, Frans [ZA]/[ZA] (UsOnly)
Inventeurs
  • PRINS, Johan, Frans
Mandataires
  • ABRAMSON, Lance
Données relatives à la priorité
2001/724031.08.2001ZA
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) CATHODIC DEVICE COMPRISING ION-IMPLANTED EMITTED SUBSTRATE HAVING NEGATIVE ELECTRON AFFINITY
(FR) DISPOSITIF CATHODIQUE
Abrégé
(EN)
A cathodic device having 'cold cathode' properties is created by providing a substrate of diamond material having negative electron affinity characteristics, and implanting low energy oxygen or nitrogen ions to create a depletion layer at or near the surface of the substrate. The depletion layer acts as an 'ohmic'-tunneling region through which conducting electrons in the substrate can tunnel and be emitted from the surface of the substrate into an adjacent vacuum. Preferably, the dopant ions are implanted at low energies, less than 1 keV.
(FR)
On crée un dispositif cathodique ayant les propriétés d'une « cathode froide » en prévoyant un substrat diamant possédant des caractéristiques d'affinité aux électrons négatifs, et en implantant des ions oxygène et azote à faible énergie pour créer une couche de déplétion au niveau de la surface du substrat ou à proximité. La couche de déplétion fait office de zone de transmission tunnel « ohmique » à travers laquelle les électrons conducteurs dans le substrat peuvent être transmis et émis de la surface du substrat vers un vide adjacent. Les ions dopants sont de préférence implantés à des niveaux d'énergie faibles, inférieurs à 1 keV.
Également publié en tant que
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international