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1. (WO2003017322) PROCEDE ET SYSTEME POUR DES MESURES DANS DES STRUCTURES TRACEES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/017322    N° de la demande internationale :    PCT/IL2002/000655
Date de publication : 27.02.2003 Date de dépôt international : 08.08.2002
CIB :
H01L 21/00 (2006.01), G01R 31/02 (2006.01)
Déposants : NOVA MEASURING INSTRUMENTS LTD. [IL/IL]; Weizmann Science Park, P.O.B. 266, 76100 Rehovoth (IL) (Tous Sauf US).
FINAROV, Moshe [IL/IL]; (IL) (US Seulement)
Inventeurs : FINAROV, Moshe; (IL)
Mandataire : KORSHUNOV, Oleg; Weizmann Science Park, P.O.B. 266, 76100 Rehovoth (IL)
Données relatives à la priorité :
144911 15.08.2001 IL
Titre (EN) A METHOD AND SYSTEM FOR MEASUREMENTS IN PATTERNED STRUCTURES
(FR) PROCEDE ET SYSTEME POUR DES MESURES DANS DES STRUCTURES TRACEES
Abrégé : front page image
(EN)A method and system are presented for measuring in a patterned structure to thereby enabling to control a process. An image of at least a region of patterned structure formed by light returned from the illuminated region is acquired and analysed to determine sites of the structure to which electrical measurements are to be applied. Electrical measurements to the predetermined sites of the structure are applied and measured data indicative of at least one parameter of the structure is generated for adjusting operating conditions of the process.
(FR)La présente invention concerne un procédé et système permettant de faire des mesures dans une structure tracée de façon à permettre de maîtriser un processus. A cet effet, on part de l'acquisition d'une image d'au moins une zone de la structure tracée formée par la lumière renvoyée par la région éclairée, et par analyse de cette image, on cherche à déterminer des endroits de cette structure où effectuer les mesures électriques. Il ne reste plus qu'à effectuer les mesures électriques aux endroits ainsi déterminés, et à produire des données de mesure caractéristique du paramètre considéré de la structure de façon à reprendre les conditions de mise en oeuvre du processus.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)