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1. (WO2003016815) CARACTERISATION DE MIROIR IN SITU
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/016815    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/025652
Date de publication : 27.02.2003 Date de dépôt international : 13.08.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    28.02.2003    
CIB :
G01B 11/30 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ZYGO CORPORATION [US/US]; Laurel Brook Road, Middlefield, CT 06455-0448 (US)
Inventeurs : HILL, Henry, Allen; (US)
Mandataire : CAUFIELD, Francis, J.; 6 Apollo Circle, Lexington, MA 02421-7025 (US)
Données relatives à la priorité :
60/313,645 20.08.2001 US
Titre (EN) IN-SITU MIRROR CHARACTERIZATION
(FR) CARACTERISATION DE MIROIR IN SITU
Abrégé : front page image
(EN)Interferometric apparatus (602) and methods by which the local surface characteristics of photolithographic mirrors or the like may be interferometrically measured in-situ to provide correction signals for enhanced distance and angular measurement accuracy. Surface characteristics along one or multiple datum lines in one or more directions may be made by measuring the angular changes in beams reflected off the surfaces during scanning operations to determine local slope and then integrating the slope to arrive at surface topology. The mirrors (650, 670) may be mounted either on the photolithographic stages or off the photolithographic stages on a reference frame (600).
(FR)L'invention concerne un appareil et des procédés d'interférométrie selon lesquels les caractéristiques superficielles locales de miroirs de photolithographie ou analogues peuvent être mesurées in situ par interférométrie pour obtenir des signaux de correction servant à augmenter la précision de mesures d'angles et de distances. Les caractérisations de surface le long d'une ou de plusieurs lignes de référence dans une ou plusieurs directions peuvent être réalisées par la mesure des changements angulaires des faisceaux réfléchis par les surfaces pendant des opérations de balayage, afin de déterminer la pente locale et de l'intégrer ensuite dans une topologie de surface. Les miroirs peuvent être montés en ou hors configuration photolithographique sur un cadre de référence.
États désignés : JP.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)