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1. (WO2003016074) PROCEDE DE FABRICATION D'UN MULTIPLEXEUR PAR REPARTITION EN LONGUEUR D'ONDE A BANDE ETROITE, EFFILE DANS LE SENS VERTICAL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/016074    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/022384
Date de publication : 27.02.2003 Date de dépôt international : 11.07.2002
CIB :
G02B 6/122 (2006.01), G02B 6/34 (2006.01)
Déposants : CORNING INCORPORATED [US/US]; 1 Riverfront Plaza Corning, NY 14831 (US)
Inventeurs : BEGUIN, Alain, Marcel, Jean; (FR).
LEHUEDE, Philippe; (FR)
Mandataire : SHORT, Svetlana, Z.; Corning Incorporated SP TI 3 1 Corning, NY 14831 (US)
Données relatives à la priorité :
09/929,456 13.08.2001 US
Titre (EN) VERTICAL TAPER FABRICATION PROCESS OF A NARROW BAND WAVELENGTH DIVISION MULTIPLEXER
(FR) PROCEDE DE FABRICATION D'UN MULTIPLEXEUR PAR REPARTITION EN LONGUEUR D'ONDE A BANDE ETROITE, EFFILE DANS LE SENS VERTICAL
Abrégé : front page image
(EN)A method of fabricating a phased array narrow band wavelength division multiplexer including an arrayed waveguide (array), a slab waveguide (FPR) and a transition region (TR) between the array waveguide and the slab waveguide comprising etching the transition region with a reactive ion etch to form vertically tapered waveguides between the arrayed waveguides.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'un multiplexeur par répartition en longueur d'onde à bande étroite et à réseau à éléments en phase, comprenant un réseau de guide d'ondes en faisceau (réseau), un guide d'ondes bidimensionnel (FRP) et une zone de transition (TR) comprise entre le réseau de guide d'ondes et le guide d'ondes bidimensionnel, consistant à attaquer la zone de transition par le biais d'une attaque ionique réactive, pour former des guides d'ondes effilés entre les réseaux de guide d'ondes.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)