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1. (WO2003016013) MOULE REVETU DE RESINE ET PROCEDE DE PRODUCTION DE CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/016013    N° de la demande internationale :    PCT/JP2002/007191
Date de publication : 27.02.2003 Date de dépôt international : 16.07.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    20.12.2002    
CIB :
B29C 33/56 (2006.01)
Déposants : TANAZAWA HAKKOSHA CO., LTD. [JP/JP]; 1-10, Nishi-ishikiri-cho 2-chome, Higashiosaka-shi, Osaka 579-8013 (JP) (Tous Sauf US).
UEDA, Ken'ichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAYAHARA, Hiromitsu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAWAZOE, Masayo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
AOTA, Hisao [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : UEDA, Ken'ichi; (JP).
KAYAHARA, Hiromitsu; (JP).
KAWAZOE, Masayo; (JP).
AOTA, Hisao; (JP)
Mandataire : OKADA, Masahiro; c/o OKADA & CO., 3rd Floor, Iyo Building, 2-21, Minamihonmachi 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 541-0054 (JP)
Données relatives à la priorité :
2001-229981 30.07.2001 JP
Titre (EN) RESIN COATED MOLD AND METHOD OF PRODUCING THE SAME
(FR) MOULE REVETU DE RESINE ET PROCEDE DE PRODUCTION DE CELUI-CI
Abrégé : front page image
(EN)A mold simple and capable of imparting irregular patterns and easy to produce; and a mold that is capable of reducing galling. A mold capable of imparting a three−dimensional shape to moldings is characterized in that the smooth mold surface is three−dimensionally coated with a synthetic resin.
(FR)L'invention concerne un moule simple, capable de former des motifs irréguliers et facile à produire ; et un moule permettant de réduire les éraillures. Le moule, qui permet d'obtenir des moulages de forme tridimensionnelle, est caractérisé en ce que la surface lisse du moule présente un revêtement tridimensionnel de résine synthétique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)