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1. (WO2003015860) MICRO-AIGUILLES ET PROCEDE DE FABRICATION CORRESPONDANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/015860    N° de la demande internationale :    PCT/SE2002/001456
Date de publication : 27.02.2003 Date de dépôt international : 14.08.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    05.03.2003    
CIB :
A61M 37/00 (2006.01)
Déposants : BONSENS AB [SE/SE]; Ruddamsvägen 31 B, S-114 21 Stockholm (SE) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NE, NL, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW only).
STEMME, Göran [SE/SE]; (SE) (US Seulement).
GRISS, Patrick [CH/CH]; (CH)
Inventeurs : STEMME, Göran; (SE).
GRISS, Patrick; (CH)
Mandataire : DR LUDWIG BRANN PATENTBYRÅ AB; (Drottninggatan 7), Box 1344, S-751 43 Uppsala (SE)
Données relatives à la priorité :
0102736-6 14.08.2001 SE
Titre (EN) MICRO NEEDELES AND METHOD OF MANUFACTURE THEREOF
(FR) MICRO-AIGUILLES ET PROCEDE DE FABRICATION CORRESPONDANT
Abrégé : front page image
(EN)A micro-needle according to the invention protrudes from a support member. The needle comprises a needle body portion, a closed pointed tip portion, and an inner lumen extending through said support member and into said protruding needle. The needle body portion has at least one side opening communicating with said inner lumen. The method of making the needle comprises providing a mask on the front side of an etchable wafer such that the vertical projection of said mask at least partially covers the extension of a hole made in the back side. Said mask is isotropically underetched to remove wafer material. An anisotropic etch forms a protruding structure. Optionally a second isotropic etch on said protruding structure exposes the blind hole. Optionally a final anisotropic etch extends the needle without forming side openings. The position and extension of the mask relative the position and dimension of the hole is such that said side openings form during either said anisotropic etc or said second isotropic etch.
(FR)Cette invention se rapporte à une micro-aiguille qui est saillante par rapport à un élément de support. Cette aiguille comprend une partie corps d'aiguille, une partie d'extrémité pointue fermée, et un passage interne traversant l'élément de support et débouchant dans l'aiguille saillante. La partie corps d'aiguille possède au moins une ouverture latérale communiquant avec le passage interne. Le procédé de fabrication de cette aiguille consiste à placer un masque sur le coté frontal d'une plaque pouvant être attaquée par gravure, de telle sorte que la projection verticale du masque couvre au moins partiellement l'extension d'un trou pratiqué dans le coté postérieur. Le masque est sous-gravé par voie isotropique pour éliminer le matériau de la plaque. Une gravure anisotropique forme une structure saillante. Eventuellement, une seconde gravure isotropique sur cette structure saillante expose le trou borgne. Eventuellement, une gravure anisotropique finale étend l'aiguille sans former d'ouvertures latérales. La position et l'extension du masque par rapport à la position et à la dimension du trou sont conçues de telle sorte que les ouvertures latérales se forment soit pendant la gravure anisotropique soit pendant la seconde gravure isotropique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)