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1. (WO2003015159) ISOLEMENT DE TRANCHEES A SCELLEMENT EN SURFACE AJUSTE AUTOMATIQUEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/015159    N° de la demande internationale :    PCT/EP2002/008247
Date de publication : 20.02.2003 Date de dépôt international : 24.07.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    13.02.2003    
CIB :
H01L 21/762 (2006.01)
Déposants : INFINEON TECHNOLOGIES AG [DE/DE]; St.-Martin-Strasse 53, 81669 München (DE) (Tous Sauf US).
TEMMLER, Dietmar [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WICH-GLASEN, Andreas [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : TEMMLER, Dietmar; (DE).
WICH-GLASEN, Andreas; (DE)
Mandataire : WILHELM, Jürgen; Wilhelm & Beck, Nymphenburger Strasse 139, 80636 München (DE)
Données relatives à la priorité :
101 38 510.2 06.08.2001 DE
Titre (DE) GRABENISOLATION MIT SELBSTJUSTIERENDER OBERFLÄCHENVERSIEGELUNG UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER SOLCHEN GRABENISOLATION
(EN) TRENCH ISOLATION HAVING A SELF-ADJUSTING SURFACE SEAL AND METHOD FOR PRODUCING ONE SUCH TRENCH ISOLATION
(FR) ISOLEMENT DE TRANCHEES A SCELLEMENT EN SURFACE AJUSTE AUTOMATIQUEMENT
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Grabenisolation mit einer selbstjustierenden Oberflächenversiegelung und einem Herstellungsverfahren für diese Oberflächenversiegelung. Die Oberflächenversiegelung kann dabei einen Überlappungsbereich der Substratoberfläche bzw. einen zurückgebildeten Bereich, in den sich eine auf der Substratoberfläche ausgebildete elektrisch leitende Schicht erstreckt, aufweisen.
(EN)The invention relates to a trench isolation comprising a self-adjusting surface seal, and to a method for producing said surface seal. The surface seal can comprise an overlapping region of the substrate surface or a reconstituted region in which an electroconductive layer extends, said layer being formed on the substrate surface.
(FR)L'invention concerne un isolement de tranchées à scellement en surface ajusté automatiquement, ainsi qu'un procédé d'obtention de ce scellement en surface. Le scellement en surface peut présenter une zone de recouvrement de la surface du substrat ou une zone reconstituée, dans laquelle s'étend une couche électroconductrice formée à la surface du substrat.
États désignés : JP, KR, US.
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)