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1. (WO2003014827) SYSTEME D'INTERFEROMETRE POUR SYSTEME D'EXPOSITION A SEMI-CONDUCTEURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/014827    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/025238
Date de publication : 20.02.2003 Date de dépôt international : 07.08.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    06.03.2003    
CIB :
G01B 9/02 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3 Marunouchi, 3-Chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP) (Tous Sauf US).
NOVAK, W. Thomas [US/US]; (US) (US Seulement).
STUMBO, David [US/US]; (US) (US Seulement).
INOUE, Fuyuhiko [JP/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : NOVAK, W. Thomas; (US).
STUMBO, David; (US).
INOUE, Fuyuhiko; (US)
Mandataire : KOHLER, Thomas, D.; Pennie & Edmonds LLP, 1155 Avenue of the Americas, New York, NY 10036 (US)
Données relatives à la priorité :
09/924,071 07.08.2001 US
Titre (EN) AN INTERFEROMETER SYSTEM FOR A SEMICONDUCTOR EXPOSURE SYSTEM
(FR) SYSTEME D'INTERFEROMETRE POUR SYSTEME D'EXPOSITION A SEMI-CONDUCTEURS
Abrégé : front page image
(EN)An interferometer measuring system comprising two moveable members (30, 40) and a reference member (22) that may have significantly less movement, the group having a number of attached measurement mirrors (31, 32, 33, 34), interferometers (41, 42, 43, 44, 45, 46, 47, 48) for measuring position and two optical support blocks (50, 60) for the interferometers. The interferometers (41-48) are used to determine the measured optical path lengths to each of the moveable members (30, 40) and reference member (22) and these positions are used to calculate the misalignment, or error in the relative positions of the moveable members (30, 40) with respect to the reference member (22). This calculated error is then used to correct the misalignment by moving the appropriate members in the manner directed by the calculation.
(FR)La présente invention concerne un système de mesure par interféromètre. Ledit système comprend deux éléments mobiles (30, 40) et un élément de référence (22) à déplacement nettement moindre, le groupe présentant un certain nombre de miroirs de mesure fixes (31, 32, 33, 34), des interféromètres (41, 42, 43, 44, 45, 46, 47, 48) permettant de mesurer la position et deux blocs de support optique (50, 60) pour les interféromètres. Lesdits interféromètres (41-48) sont utilisés pour déterminer les longueurs de trajets optiques mesurés jusqu'à chacun des éléments mobiles (30, 40) et de l'élément de référence (22) et lesdites positions sont utilisées pour calculer le défaut d'alignement, ou l'erreur au niveau des positions relatives des éléments mobiles (30, 40) par rapport à l'élément de référence (22). Ladite erreur calculée est ensuite utilisée pour corriger le défaut d'alignement, par déplacement des éléments appropriés, en fonction du calcul.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)