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1. (WO2003012821) PROCEDE ET APPAREIL PRODUISANT DES DEGRES ELEVES D'UNIFORMITE DE TRAITEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/012821    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/023092
Date de publication : 13.02.2003 Date de dépôt international : 18.07.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    19.06.2003    
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; M/S CA-1, 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538-6470 (US) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NE, NL, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW only).
WILCOXSON, Mark, H. [US/US]; (US) (US Seulement).
BAILEY, III, Andrew, D. [US/US]; (US) (US Seulement).
KUTHI, Andras [US/US]; (US) (US Seulement).
SMITH, Michael, G.R. [US/US]; (US) (US Seulement).
SCHOEPP, Alan, M. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : WILCOXSON, Mark, H.; (US).
BAILEY, III, Andrew, D.; (US).
KUTHI, Andras; (US).
SMITH, Michael, G.R.; (US).
SCHOEPP, Alan, M.; (US)
Mandataire : VILLENEUVE, Joseph, M.; BEYER WEAVER & THOMAS, LLP, 2030 Addison Street, 7th Floor, P.O. Box 778, Berkeley, CA 94704 (US).
WEAVER, Jeffery, K.; Beyer Weavers & Thomas LLP, P.O. Box 778, Berkeley, CA 94704-0778 (US)
Données relatives à la priorité :
60/308,469 27.07.2001 US
10/033,807 18.12.2001 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING UNIFORM PROCESS RATES
(FR) PROCEDE ET APPAREIL PRODUISANT DES DEGRES ELEVES D'UNIFORMITE DE TRAITEMENT
Abrégé : front page image
(EN)An antenna arrangement for generating an electric field inside a process chamber is provided. Generally, the antenna arrangement comprises a first loop disposed around an antenna axis. The first loop comprises a first turn (704) with a first turn gap (1112); a second turn (708) with a second turn gap, where the second turn is concentric and coplanar with the first turn and spaced apart from the first turn, and where the antenna axis passes through the center of the first turn and second turn; and a first turn-second turn connector (1132) electrically connected between a second end of the first turn and a first end of the second turn comprising a spanning section between and coplanar with the first turn and the second turn and which spans the first turn gap and the second turn gap.
(FR)L'invention concerne un agencement d'antenne permettant de générer un champ électrique à l'intérieur d'une chambre de traitement. En général, l'agencement d'antenne comprend une première boucle disposée autour d'un axe d'antenne. La première boucle comprend une première spire ayant un premier intervalle de spire et une seconde spire ayant un seconde intervalle de spire. La seconde spire est concentrique et coplanaire avec la première spire et est espacée par rapport à la première spire. L'axe de l'antenne passe par le centre de la première spire et de la seconde spire; un connecteur de spire est connecté électriquement entre une seconde extrémité de la première spire et une première extrémité de la seconde spire. Ce connecteur de spire comprend une section d'enjambement comprise entre la première spire et la seconde spire, coplanaire avec elles, et enjambant les deux intervalles de spire.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)