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1. (WO2003011595) INGENIERIE SPECTRALE LASER POUR PROCEDE LITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/011595    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/022190
Date de publication : 13.02.2003 Date de dépôt international : 11.07.2002
CIB :
B41C 1/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01S 3/10 (2006.01), H01S 3/137 (2006.01), H01S 3/22 (2006.01), H01S 3/223 (2006.01)
Déposants : CYMER, INC. [US/US]; Legal Department - M/S 4-2C, 17075 Thornmint Court, San Diego, CA 92127-2413 (US) (Tous Sauf US).
SPANGLER, Ronald, L. [US/US]; (US) (US Seulement).
LIPCON, Jacob, P. [US/US]; (US) (US Seulement).
RULE, John, A. [US/US]; (US) (US Seulement).
JACQUES, Robert, N. [US/US]; (US) (US Seulement).
KROYAN, Armen [RU/US]; (US) (US Seulement).
LALOVIC, Ivan [US/US]; (US) (US Seulement).
FOMENKOV, Igor, V. [US/US]; (US) (US Seulement).
ALGOTS, John, M. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : SPANGLER, Ronald, L.; (US).
LIPCON, Jacob, P.; (US).
RULE, John, A.; (US).
JACQUES, Robert, N.; (US).
KROYAN, Armen; (US).
LALOVIC, Ivan; (US).
FOMENKOV, Igor, V.; (US).
ALGOTS, John, M.; (US)
Mandataire : ROSS, John, R.; Cymer, Inc., Legal Department MS/4-2C, 17075 Thornmint Court, San Diego, CA 92127-2413 (US)
Données relatives à la priorité :
09/918,773 27.07.2001 US
10/036,925 21.12.2001 US
Titre (EN) LASER SPECTRAL ENGINEERING FOR LITHOGRAPHIC PROCESS
(FR) INGENIERIE SPECTRALE LASER POUR PROCEDE LITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)An integrated circuit lithography technique called (spectral engineering for bandwidth control of an electric discharge laser. A computer models lithographic parameters to determine a desired laser spectrum needed to produce a desired lithographic result. A fast responding tuning mechanism (104) adjusts the center wavelength of laser pulses in a burst of pulses to achieve an integrated spectrum for the burst of pulses approximating the desired laser spectrum. The laser beam bandwidth is controlled to produce an effective beam spectrum having at least two spectral peaks in order to produce improved pattern resolution in photo resist film. Line narrowing equipment (106) is provided having at least one piezoelectric drive and a fast bandwidth detection control system having a time response of less than about 2.0 millisecond. A wavelength tuning mirror is dithered at dither rates of more than 500 dithers per second in phase with the repetition rate of the laser.
(FR)La présente invention concerne une technique de lithographie de circuit intégré appelée ingénierie spectrale par les déposants. Ladite technique permet d'accorder la largeur de bande d'un laser à décharge électrique. Selon un procédé préféré, un modèle informatique est utilisé pour modéliser des paramètres lithographiques afin de déterminer un spectre laser souhaité nécessaire à la production d'un résultat lithographique souhaité. Un mécanisme de réglage de syntonisation à réponse rapide est ensuite utilisé pour régler la longueur d'onde centrale d'impulsions laser dans une rafale d'impulsions de manière à obtenir un spectre intégré pour les rafales d'impulsions s'approchant du spectre laser souhaité. La largeur de bande du faisceau laser est accordée pour produire un spectre de faisceau efficace présentant au moins deux crêtes spectrales de manière à produire une résolution de motif améliorée dans une couche photorésistante. L'invention concerne également un équipement de rétrécissement de ligne présentant au moins un élément d'entraînement piézoélectrique et un système de détection rapide de largeur de bande dont le temps de réponse est inférieur à environ 2,0 millisecondes. Selon un mode de réalisation préféré, un miroir de réglage de longueur d'onde est accordé par tremblotement à des fréquences de tremblotement supérieures à 500 tremblotements par seconde en phase avec la fréquence de répétition du laser. Dans un cas, l'élément d'entraînement piézoélectrique est entraîné par un signal d'onde carrée et dans un second cas, il est entraîné par un signal d'onde sinusoïdale. Selon un autre mode de réalisation, le déplacement maximum est apparié sur une base linéaire avec les impulsions laser de manière à produire un spectre moyen souhaité présentant deux crêtes pour une série d'impulsions laser. D'autres modes de réalisation font appel à trois positions de réglage de longueur d'onde séparées produisant un spectre présentant trois crêtes séparées.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)