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1. (WO2003010606) MASQUES PHOTOGRAPHIQUES RECOUVERTS DE FLUOROPOLYMERE POUR PHOTOLITHOGRAPHIE

Pub. No.:    WO/2003/010606    International Application No.:    PCT/US2002/023739
Publication Date: 6 févr. 2003 International Filing Date: 24 juil. 2002
IPC: G03F 1/48
H01L 21/027
Applicants: MICRO LITHOGRAPHY, INC.
WANG, Ching-Bore
Inventors: WANG, Ching-Bore
Title: MASQUES PHOTOGRAPHIQUES RECOUVERTS DE FLUOROPOLYMERE POUR PHOTOLITHOGRAPHIE
Abstract:
L'invention concerne des masques photographiques pour des procédés photolithographiques présentant un film protecteur poly(fluorocarbone) amorphe déposé sur leurs surfaces. Cette invention concerne également un procédé de préparation de masques photographiques enrobés, ainsi qu'un procédé permettant de les utiliser dans un procédé photolithographique.