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1. (WO2003010602) COMPOSITION DE RESINE PHOTOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2003/010602    N° de la demande internationale :    PCT/EP2002/007989
Date de publication : 06.02.2003 Date de dépôt international : 18.07.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    05.12.2002    
CIB :
G03F 7/00 (2006.01), G03F 7/031 (2006.01)
Déposants : CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC. [CH/CH]; Klybeckstrasse 141, CH-4057 Basle (CH) (Tous Sauf US).
KURA, Hisatoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OKA, Hidetaka [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OHWA, Masaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KURA, Hisatoshi; (JP).
OKA, Hidetaka; (JP).
OHWA, Masaki; (JP)
Mandataire : CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.; Patentabteilung, Klybeckstrasse 141, CH-4057 Basel (CH)
Données relatives à la priorité :
01810734.2 26.07.2001 EP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RESINE PHOTOSENSIBLE
Abrégé : front page image
(EN)A photosensitive composition comprising, (A) an oligomer or polymer containing at least one carboxylic acid group in the molecule and having a molecular weight of 200'ooo or less; (B) at least one photoinitiator compound of formula (I), R¿1?, is lenear or banched C¿1?-C¿12?alkyl; R¿2? is linear or branched C¿1?-C¿4?alkyl; R¿3? and R¿4? independently of one another are linear or branched C¿1?-C¿8?alkyl; and (C) a monomeric, oligoneric or polymeric compound having at least one olefinic double bond, is especially suitable for preparting photoresists, in particular color filters.
(FR)La présente invention concerne une composition de résine photosensible qui comprend: (A) un oligomère ou un polymère contenant au moins un groupe acide carboxylique dans la molécule et possédant un poids moléculaire de 200.000 ou moins, (B) au moins un composé photo-initiateur représenté par la formule I, dans laquelle R¿1? est un alkyle en C¿1?-C¿12? linéaire ou ramifié, R¿2? est un alkyle en C¿1?-C¿4? linéaire ou ramifié, R¿3? et R¿4? sont indépendamment l'un de l'autre alkyle en C¿1?-C¿8? linéaire ou ramifié, et (C) un composé monomère, oligomère ou polymère possédant au moins une double liaison oléfinique. Cette composition convient particulièrement pour la préparation de photorésines, en particulier des filtres de couleur.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)