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Paramétrages

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1. WO2003009369 - SOLUTION SOL PERMETTANT DE PRODUIRE DES REVETEMENTS EN VERRE POUR DES MATERIAUX ELECTROCONDUCTEURS POUVANT ETRE UTILISES POUR REALISER UNE LIAISON ANODIQUE

Numéro de publication WO/2003/009369
Date de publication 30.01.2003
N° de la demande internationale PCT/DE2002/002541
Date du dépôt international 11.07.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 28.01.2003
CIB
C03C 1/00 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
03VERRE; LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES
CCOMPOSITION CHIMIQUE DES VERRES, GLAÇURES OU ÉMAUX VITREUX; TRAITEMENT DE LA SURFACE DU VERRE; TRAITEMENT DE SURFACE DES FIBRES OU FILAMENTS DE VERRE, DE SUBSTANCES MINÉRALES OU DE SCORIES; LIAISON DU VERRE AU VERRE OU À D'AUTRES MATÉRIAUX
1Ingrédients généralement utilisés pour la fabrication des verres, glaçures ou émaux vitreux
C23C 18/12 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
18Revêtement chimique par décomposition soit de composés liquides, soit de solutions des composés constituant le revêtement, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement; Dépôt par contact
02par décomposition thermique
12caractérisée par le dépôt sur des matériaux inorganiques, autres que des matériaux métalliques
CPC
C03C 1/008
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
1Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
006to produce glass through wet route
008for the production of films or coatings
C23C 18/1212
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
18Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
02by thermal decomposition
12characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
1204inorganic material, e.g. non-oxide and non-metallic such as sulfides, nitrides based compounds
1208Oxides, e.g. ceramics
1212Zeolites, glasses
C23C 18/1254
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
18Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
02by thermal decomposition
12characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
125Process of deposition of the inorganic material
1254Sol or sol-gel processing
C23C 18/1279
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
18Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
02by thermal decomposition
12characterised by the deposition of inorganic material other than metallic material
125Process of deposition of the inorganic material
1279performed under reactive atmosphere, e.g. oxidising or reducing atmospheres
Y10T 428/31663
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
428Stock material or miscellaneous articles
31504Composite [nonstructural laminate]
31652Of asbestos
31663As siloxane, silicone or silane
Déposants
  • FRAUNHOFER GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. [DE/DE]; Leonrodstrasse 54 80636 München, DE (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, JP, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR)
  • QUENZER, Hans, Joachim [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • SCHULZ, Arne, Veit [DE/DE]; DE (UsOnly)
Inventeurs
  • QUENZER, Hans, Joachim; DE
  • SCHULZ, Arne, Veit; DE
Mandataires
  • GAGEL, Roland; Landsberger Str. 480a 81241 München, DE
Données relatives à la priorité
101 34 892.418.07.2001DE
102 08 782.228.02.2002DE
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) SOLLÖSUNG ZUR HERSTELLUNG VON GLASBESCHICHTUNGEN FÜR ELEKTRISCH LEITENDE, ZUM ANODISCHEN BONDEN EINSETZBARE MATERIALIEN
(EN) SOL SOLUTION FOR PRODUCING GLASS COATINGS FOR ELECTRICALLY CONDUCTIVE MATERIALS THAT CAN BE USED IN ANODIC BONDING
(FR) SOLUTION SOL PERMETTANT DE PRODUIRE DES REVETEMENTS EN VERRE POUR DES MATERIAUX ELECTROCONDUCTEURS POUVANT ETRE UTILISES POUR REALISER UNE LIAISON ANODIQUE
Abrégé
(DE)
Beschrieben wird eine Sollösung sowie ein Verfahren zur Herstellung dieser Sollösung, die als Beschichtungsmittel zur Herstellung von Glasschichten auf elektrisch leitende, zum anodischen Bonden einsetzbare Materialien dient. Die Sollösung ist ein Gemisch aus einem Organosol, bestehend aus SiO2 gelöst in mindestens einem oder einer Mischung aus mehreren n-Alkanolen, einem Tetraethylorthosilikat (TEOS) und/oder einem Triethoxy- oder Trimethoxysilan sowie einer Säure oder Base und Wasser und das Gemisch ist wenigstens teilweise polymerisiert. Die Sollösung zeichnet sich dadurch aus, dass ein Alkalialkoholat in dem Gemisch enthalten ist.
(EN)
The invention relates to a sol solution and to a method for producing said sol solution, the latter acting as a coating agent for producing glass layers on electrically conductive materials that can be used in anodic bonding. The sol solution is a mixture of an organosol, consisting of SiO2, dissolved in at least one n-alkanol, or in a mixture of several n-alkanols, a tetraethyl orthosilicate (TEOS) and/or a triethoxy or trimethoxy silane, in addition to an acid or base and the mixture is at least partially polymerised. The sol solution is characterised in that the mixture contains an alkali alcoxide.
(FR)
La présente invention concerne une solution sol et un procédé pour produire cette solution sol, cette dernière servant de système de revêtement pour produire des couches de verre sur des matériaux électroconducteurs qui peuvent être utilisés pour réaliser une liaison anodique. Cette solution sol est un mélange composé d'un organosol, constitué de SiO2 dissous dans au moins un n-alcanol ou dans un mélange de plusieurs n-alcanols, d'un tétraéthylorthosilicate (TEOS) et/ou d'un triéthoxysilane ou triméthoxysilane et d'un acide ou d'une base et d'eau, ce mélange étant au moins partiellement polymérisé. La solution sol selon cette invention est caractérisée en ce que ledit mélange renferme un alcoolate alcalin.
Également publié en tant que
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