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Paramétrages

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1. WO2003009340 - DISPOSITIF ET PRODEDE DE POSITIONNEMENT HARMONISE DE TRANCHES DE SILICIUM

Numéro de publication WO/2003/009340
Date de publication 30.01.2003
N° de la demande internationale PCT/CH2002/000375
Date du dépôt international 09.07.2002
CIB
H01L 21/68 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
68pour le positionnement, l'orientation ou l'alignement
CPC
H01L 21/68
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
68for positioning, orientation or alignment
H01L 21/681
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
68for positioning, orientation or alignment
681using optical controlling means
Y10S 414/136
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
414Material or article handling
135Associated with semiconductor wafer handling
136including wafer orienting means
Déposants
  • BROOKS-PRI AUTOMATION (SWITZERLAND) GMBH [CH/CH]; Lohstampfestrasse 11 CH-8274 Tägerwilen, CH (AllExceptUS)
  • BLATTNER, Jakob [CH/CH]; CH (UsOnly)
Inventeurs
  • BLATTNER, Jakob; CH
Données relatives à la priorité
1283/0112.07.2001CH
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM HARMONISIERTEN POSITIONIEREN VON WAFERSCHEIBEN
(EN) DEVICE AND METHOD FOR HARMONISED POSITIONING OF WAFER DISKS
(FR) DISPOSITIF ET PRODEDE DE POSITIONNEMENT HARMONISE DE TRANCHES DE SILICIUM
Abrégé
(DE)
Es wird eine Vorrichtung zum Ausrichten einer Vielzahl von stehend gelagerten Scheiben (20), insbesondere Waferscheiben bei der Fertigung von Halbleiterchips, mit zwei Lagerungselementen (30, 32), jeweils mit die nebeneinander positionierten, einzeln gelagerten Führungsrollen (34) für jede Scheibenposition, einer Antriebseinrichtung (40, 42; 50, 60; 240, 242) zum Verdrehen der Scheiben, einem Mittel (80) zum Detektieren der azimutalen Positionen von im Aussenumfang befindlichen Kerben (22) in den Scheiben (20), und einer Einrichtung zum Steuern der Antriebseinrichtung mit den Signalen des Mittels (80) zum Detektieren der azimutalen Positionen der Kerben (22) offenbart, bei der die Antriebseinrichtung zum Verdrehen der Scheiben bezüglich ihrer azimutalen Position eine Vielzahl von einzeln angetriebene, auf einer feststehenden Achse (40) aufgezogene Antriebsrollenelemente (42) für jede Scheibe (20) aufweist. In einer ersten Ausführungsform sind dabei die Antriebsrollenelemente über eine Vielzahl von Übertragungsrollen (60) mit einer zweiten, angetriebene Antriebsrolle (60) mit Hilfe von Aktorelementen selektiv koppelbar. In einer zweiten Ausführungsform ist die erste Antriebsrolle durch eine Vielzahl von einzeln angesteuerten Antriebselementen (240) einzeln angetrieben.
(EN)
Disclosed is a device for orienting a plurality of upright disks (20), especially wafer disks, in the production of semiconductor chips, comprising two bearing elements (30,32) respectively comprising adjacently positioned, individually mounted guide rollers (34) for each disk position, a drive device (40, 42; 50, 60; 240, 242) for rotating said disks, a means (80) for detecting the azimuthal positions of indentations (22) in the disks (20), and a device for controlling the drive device with the signals of the means (80) for detecting the azimuthal positions of the indentations (22). According to the invention, the drive device for rotating the disks in relation to the azimuthal position thereof has a plurality of individually driven drive roller elements (42) for each disk (20) mounted on a stationary axis (40). In one embodiment, the drive roller elements, via a plurality of transmission rollers, can be selectively coupled by to a second driven driver roller (60) with the aid of actuator elements. In a second embodiment, the first drive roller is individually driven by a plurality of individually controlled drive elements (240).
(FR)
L'invention concerne un dispositif d'alignement d'une pluralité de rondelles (20) placées à la verticale, en particulier de tranches de silicium, dans la fabrication de microplaquettes semi-conductrices. Ce dispositif comprend deux éléments support (30, 32), présentant chacun des galets de guidage individuels juxtaposés (34) pour chaque position de rondelle, un dispositif d'entraînement (40, 42 ; 50, 60 ; 240, 242) conçu pour entraîner en rotation lesdites rondelles, un moyen de détection (80) des positions azimutales d'encoches (22) situées sur la périphérie extérieure des rondelles (20) ainsi qu'un système de commande du dispositif d'entraînement, utilisant les signaux du moyen de détection (80) des positions azimutales des encoches (22). Selon cette invention, le dispositif d'entraînement, conçu pour entraîner les rondelles en rotation par rapport à leur position azimutale, présente une pluralité de galets d'entraînement (42), entraînés de façon individuelle et montés sur un axe fixe (40), pour chaque rondelle (20). Dans un premier mode de réalisation, ces galets d'entraînement peuvent être couplés de façon sélective à un deuxième rouleau d'entraînement entraîné (60), par l'intermédiaire d'une pluralité de galets de transmission (50), à l'aide d'éléments actionneurs. Dans un deuxième mode de réalisation, le premier rouleau d'entraînement est entraîné de façon individuelle par une pluralité d'éléments d'entraînement (240) commandés individuellement.
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