Traitement en cours

Veuillez attendre...

Paramétrages

Paramétrages

1. WO2003006374 - PRODUCTION ET UTILISATION DE TETRAFLUOROSILANE

Numéro de publication WO/2003/006374
Date de publication 23.01.2003
N° de la demande internationale PCT/JP2002/007069
Date du dépôt international 11.07.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 03.02.2003
CIB
C01B 33/107 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
01CHIMIE INORGANIQUE
BÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
33Silicium; Ses composés
08Composés halogénés
107Silanes halogénés
B01D 53/04 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
DSÉPARATION
53Séparation de gaz ou de vapeurs; Récupération de vapeurs de solvants volatils dans les gaz; Épuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p.ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols
02par adsorption, p.ex. chromatographie préparatoire en phase gazeuse
04avec adsorbants fixes
B01D 53/22 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
DSÉPARATION
53Séparation de gaz ou de vapeurs; Récupération de vapeurs de solvants volatils dans les gaz; Épuration chimique ou biologique des gaz résiduaires, p.ex. gaz d'échappement des moteurs à combustion, fumées, vapeurs, gaz de combustion ou aérosols
22par diffusion
B01J 20/281 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
JPROCÉDÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES, p.ex. CATALYSE OU CHIMIE DES COLLOÏDES; APPAREILLAGE APPROPRIÉ
20Compositions absorbantes ou adsorbantes solides ou compositions facilitant la filtration; Absorbants ou adsorbants pour la chromatographie; Procédés pour leur préparation, régénération ou réactivation
281Absorbants ou adsorbants spécialement adaptés pour la chromatographie préparative, analytique ou de recherche
C03B 37/00 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
03VERRE; LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES
BFABRICATION OU FAÇONNAGE DU VERRE, DE LA LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES;  TRAITEMENTS ADDITIONNELS DANS LA FABRICATION OU LE FAÇONNAGE DU VERRE, DE LA LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES
37Fabrication ou traitement de copeaux, de fibres ou de filaments obtenus à partir de verre, substances minérales ou scories ramollies
C03B 37/014 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
03VERRE; LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES
BFABRICATION OU FAÇONNAGE DU VERRE, DE LA LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES;  TRAITEMENTS ADDITIONNELS DANS LA FABRICATION OU LE FAÇONNAGE DU VERRE, DE LA LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES
37Fabrication ou traitement de copeaux, de fibres ou de filaments obtenus à partir de verre, substances minérales ou scories ramollies
01Fabrication de fibres ou de filaments de verre
012Fabrication d'ébauches d'étirage de fibres ou de filaments
014obtenues totalement ou partiellement par des moyens chimiques
CPC
B01D 2253/102
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
2253Adsorbents used in seperation treatment of gases and vapours
10Inorganic adsorbents
102Carbon
B01D 2253/308
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
2253Adsorbents used in seperation treatment of gases and vapours
30Physical properties of adsorbents
302Dimensions
308Pore size
B01D 2257/102
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
2257Components to be removed
10Single element gases other than halogens
102Nitrogen
B01D 2257/104
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
2257Components to be removed
10Single element gases other than halogens
104Oxygen
B01D 2257/204
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
2257Components to be removed
20Halogens or halogen compounds
204Inorganic halogen compounds
B01D 2257/2047
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
2257Components to be removed
20Halogens or halogen compounds
204Inorganic halogen compounds
2047Hydrofluoric acid
Déposants
  • SHOWA DENKO K. K. [JP/JP]; 13-9, Shiba Daimon 1-chome Minato-ku, Tokyo 105-8518, JP (AllExceptUS)
  • ATOBE, Hitoshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • OKA, Masakazu [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • KANEKO, Toraichi [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • ATOBE, Hitoshi; JP
  • OKA, Masakazu; JP
  • KANEKO, Toraichi; JP
Mandataires
  • ISHIDA, Takashi ; A. AOKI, ISHIDA & ASSOCIATES Toranomon 37 Mori Bldg., 5-1, Toranomon 3-chome Minato-ku, Tokyo 105-8423, JP
Données relatives à la priorité
2001-21289012.07.2001JP
60/306,42020.07.2001US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) PRODUCTION AND USE OF TETRAFLUOROSILANE
(FR) PRODUCTION ET UTILISATION DE TETRAFLUOROSILANE
Abrégé
(EN)
Tetrafluorosilane is produced by a process comprising a step (1) of heating a hexafluorosilicate, a step (2-1) of reacting a tetrafluorosilane gas containing hexafluorodisiloxane produced in the step (1) with a fluorine gas, a step (2-2) of reacting a tetrafluorosilane gas containing hexafluorodisiloxane produced in the step (1) with a highvalent metal fluoxide, or a step (2-1) of reacting a tetrafluorosilane gas containing hexafluorodisiloxane produced in the step (1) with a fluorine gas and a step (2-3) of reacting a tetrafluorosilane gas produced in the step (2-1) with a highvalent metal fluoxide. Further, impurities in high-purity tetrafluorosilane are analyzed.
(FR)
Selon cette invention, le tétrafluorosilane est produit au moyen d'un procédé comprenant une étape (1) consistant à chauffer un hexafluorosilicate ; une étape (2-1) consistant à faire réagir un gaz tétrafluorosilane contenant un hexafluorodisiloxane obtenu dans l'étape (1) avec un gaz de fluor ; une étape (2-2) consistant à faire réagir un gaz tétrafluorosilane contenant un hexafluorodisilane produit dans l'étape (1) avec un fluorure de métal à valence élevée ; ou une étape (2-1) consistant à faire réagir un gaz tétrafluorosilane contenant un hexafluorodisiloxane obtenu dans l'étape (1) avec un gaz de fluor ; et une étape (2-3) consistant à faire réagir un gaz tétrafluorosilane produit dans l'étape (2-1) avec un fluorure de métal à valence élevée. Ensuite, les impuretés contenues dans le tétrafluorosilane de grande pureté sont analysées.
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international