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Paramétrages

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1. WO2003005418 - SYSTEME POUR MANIPULER ET/OU MAINTENIR UN MASQUE ET/OU UN SUBSTRAT

Numéro de publication WO/2003/005418
Date de publication 16.01.2003
N° de la demande internationale PCT/EP2002/005508
Date du dépôt international 18.05.2002
CIB
H01L 21/68 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
68pour le positionnement, l'orientation ou l'alignement
H01L 21/687 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
683pour le maintien ou la préhension
687en utilisant des moyens mécaniques, p.ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
CPC
H01L 21/682
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
68for positioning, orientation or alignment
682Mask-wafer alignment
H01L 21/68707
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
683for supporting or gripping
687using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
68707the wafers being placed on a robot blade, or gripped by a gripper for conveyance
Déposants
  • AIXTRON AG [DE/DE]; Kackertstrasse 15-17 52072 Aachen, DE (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NE, NL, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW)
  • SCHWAMBERA, Markus [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • KITTEL, Florenz [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • FRANKEN, Walter [DE/DE]; DE (UsOnly)
Inventeurs
  • SCHWAMBERA, Markus; DE
  • KITTEL, Florenz; DE
  • FRANKEN, Walter; DE
Mandataires
  • GRUNDMANN, Dirk; c/o Rieder & Partner Corneliusstrasse 45 42329 Wuppertal, DE
Données relatives à la priorité
101 32 347.604.07.2001DE
101 40 417.417.08.2001DE
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) ANORDNUNG ZUM HANDHABEN UND/ODER AUFBEWAHREN EINER MASKE UND/ODER EINES SUBSTRATES
(EN) ASSEMBLY FOR MANIPULATING AND/OR STORING A MASK AND/OR A SUBSTRATE
(FR) SYSTEME POUR MANIPULER ET/OU MAINTENIR UN MASQUE ET/OU UN SUBSTRAT
Abrégé
(DE)
Die Erfindung betrifft eine Anordnung zum Handhaben und/ oder Aufbewahren einer Maske oder eines Substrates mit einem einen Rahmen aufweisenden Substrat- oder Maskenhalter (1, 2). Um die Beschichtung/Strukturierung von Substraten innerhalb einer mehrere Beschichtungs-/Strukturierungseinheiten umfassenden Anordnung zu verbessern und insbesondere die Ausrichtung während des Handhabens exakt beizubehalten, schlägt die Erfindung vor, gemehrere den Rahmen (1, 2) gabelartig untergreifende Stangen (3) vorzusehen, von denen mindestens zwei eine eine schneidenförmige Umfangskante (4') aufweisende Scheibe (4, 5) tragen, welche Scheibe (4, 5) jeweils in eine dem Rahmen (1,2) zugeordnete Kerbe (6) eingreift, welche Kerbe (6,7) einen Kerbgrund (8) besitzt, der einen Scheitel (9) ausbildet.
(EN)
The invention relates to an assembly for manipulating and/or storing a mask or a substrate. Said assembly contains a substrate or mask holder (1, 2), which comprises a frame. The aim of the invention is to improve the coating or structuring of substrates in an assembly containing several coating or structuring units and in particular to precisely maintain the alignment during manipulation. This is achieved by several rods (3), which engage with the underside of the frame (1, 2). At least two of said rods carry a disc (4, 5), which has a blade-shaped peripheral edge (4'). Each disc (4, 5) engages in a respective notch (6) that is allocated to the frame (1, 2), said notch (6, 7) having a notch base (8) that forms a vertex (9).
(FR)
L'invention concerne un système pour manipuler et/ou maintenir un masque ou un substrat au moyen d'un support de substrat ou de masque (1, 2) comportant un cadre. Selon l'invention, pour améliorer les opérations de revêtement/structuration de substrats à l'intérieur d'un système comprenant plusieurs unités de revêtement/structuration et, en particulier, pour maintenir avec exactitude l'orientation au cours de la manipulation, on utilise plusieurs barres (3) venant en prise avec le cadre (1, 2) par en-dessous à la manière d'une fourche. Au moins deux de ces barres portent un disque (4, 5) présentant une arête circonférentielle (4') en forme de taillant. Ce disque (4, 5) s'engage dans une entaille (6) associée au cadre (1, 2), cette entaille (6, 7) possédant un fond (8) qui forme une crête (9).
Également publié en tant que
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