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1. WO2003005412 - PROCEDE ET APPAREIL POUR LE CRIBLAGE EN COURS DE PRODUCTION

Numéro de publication WO/2003/005412
Date de publication 16.01.2003
N° de la demande internationale PCT/IL2002/000527
Date du dépôt international 27.06.2002
CIB
G01N 21/55 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
NRECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
17Systèmes dans lesquels la lumière incidente est modifiée suivant les propriétés du matériau examiné
55Réflexion spéculaire
CPC
G01B 11/0625
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
11Measuring arrangements characterised by the use of optical means
02for measuring length, width or thickness
06for measuring thickness, e.g. of sheet material
0616of coating
0625with measurement of absorption or reflection
G01B 11/0683
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
11Measuring arrangements characterised by the use of optical means
02for measuring length, width or thickness
06for measuring thickness, e.g. of sheet material
0616of coating
0683measurement during deposition or removal of the layer
G01N 21/55
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using infra-red, visible or ultra-violet light
17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
55Specular reflectivity
G05B 19/4184
GPHYSICS
05CONTROLLING; REGULATING
BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
19Programme-control systems
02electric
418Total factory control, i.e. centrally controlling a plurality of machines, e.g. direct or distributed numerical control [DNC], flexible manufacturing systems [FMS], integrated manufacturing systems [IMS], computer integrated manufacturing [CIM]
4184characterised by fault tolerance, reliability of production system
G05B 2219/31442
GPHYSICS
05CONTROLLING; REGULATING
BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
2219Program-control systems
30Nc systems
31From computer integrated manufacturing till monitoring
31442Detect if operation on object has been executed correctly in each station
G05B 2219/31444
GPHYSICS
05CONTROLLING; REGULATING
BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
2219Program-control systems
30Nc systems
31From computer integrated manufacturing till monitoring
31444Compare actual manufacturing sequence with simulated sequence, correct actual
Déposants
  • TEVET PROCESS CONTROL TECHNOLOGIES LTD. [IL/IL]; Agra Street P.O. Box 245 20 600 Moshava Yokneam, IL (AllExceptUS)
  • DU-NOUR, Ofer [IL/IL]; IL (UsOnly)
Inventeurs
  • DU-NOUR, Ofer; IL
Mandataires
  • G. E. EHRLICH (1995) LTD.; 28 Bezalel Street 52 521 Ramat Gan, IL
Données relatives à la priorité
09/895,33302.07.2001US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCTION LINE SCREENING
(FR) PROCEDE ET APPAREIL POUR LE CRIBLAGE EN COURS DE PRODUCTION
Abrégé
(EN)
A production line tool comprising an illumination source (30), photo detector (34), and signal analysis means (40) for determining the properties of a multilayer wafer in a manufacturing process where one of the properties measured is the thickness of the layers of the wafer.
(FR)
La présente invention concerne l'utilisation d'un spectre d'intensité en tant qu'empreinte pour déterminer la structure de couche d'une tranche semi-conductrice ou un produit partiel, permettant ainsi de déterminer l'historique de cheminement du produit sur une chaîne de production et d'empêcher des erreurs de cheminement. L'invention concerne également une chaîne de production présentant une pluralité d'étages successifs pour la fabrication d'un produit tel qu'une tranche semi-conductrice, et des répartiteurs pour le transfert de produits partiellement fabriqués entre les étages de sorte que chaque étage reçoit un produit partiellement fabriqué respectif prédéfini en tant que produit entrant. La chaîne de production comporte: un spectre d'intensité prédéterminé pour au moins un étage représentant la fabrication des pièces respectives propres à l'étage, une unité de calcul de spectre disposé au niveau dudit au moins un étage opérable pour l'obtention de spectres d'intensité de produit entrant partiellement fabriqué, et un comparateur, permettant la comparaison desdits spectres d'intensité obtenus avec un spectre d'intensité prédéterminé, en vue de déterminer si lesdits produits entrants partiellement fabriqués correspondent à la fabrication des pièces respectives propres à l'étage.
Également publié en tant que
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