Traitement en cours

Veuillez attendre...

Paramétrages

Paramétrages

1. WO2003005129 - PROCEDE DE FABRICATION D'UNE PLAQUE D'IMPRESSION RECOUVERTE D'UNE RESINE PHOTOSENSIBLE ET TRAITEMENT A BASE DE REVELATEUR

Numéro de publication WO/2003/005129
Date de publication 16.01.2003
N° de la demande internationale PCT/JP2002/006695
Date du dépôt international 02.07.2002
CIB
B01D 3/10 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
DSÉPARATION
3Distillation ou procédés d'échange apparentés dans lesquels des liquides sont en contact avec des milieux gazeux, p.ex. extraction
10Distillation sous vide
C02F 1/04 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
02TRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
FTRAITEMENT DE L'EAU, DES EAUX RÉSIDUAIRES, DES EAUX OU BOUES D'ÉGOUT
1Traitement de l'eau, des eaux résiduaires ou des eaux d'égout
02par chauffage
04par distillation ou évaporation
G03F 7/30 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
26Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
30Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides
CPC
B01D 3/10
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
3Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
10Vacuum distillation
C02F 1/048
CCHEMISTRY; METALLURGY
02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
1Treatment of water, waste water, or sewage
02by heating
04by distillation or evaporation
048Purification of waste water by evaporation
G03F 7/24
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
24Curved surfaces
G03F 7/3092
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
30Imagewise removal using liquid means
3092Recovery of material; Waste processing
Déposants
  • TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 2-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome Chuo-ku, Tokyo 103-8666, JP (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, JP, LU, MC, NL, PT, SE, SK, TR)
  • ASATO, Kumiko [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • TANAKA, Shinji [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • KITO, Toshiki [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • UEHARA, Katsuhiro [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • ASATO, Kumiko; JP
  • TANAKA, Shinji; JP
  • KITO, Toshiki; JP
  • UEHARA, Katsuhiro; JP
Données relatives à la priorité
2001-20650806.07.2001JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOSENSITIVE RESIN PRINTING PLATE, AND DEVELOPER TREATMENT DEVICE
(FR) PROCEDE DE FABRICATION D'UNE PLAQUE D'IMPRESSION RECOUVERTE D'UNE RESINE PHOTOSENSIBLE ET TRAITEMENT A BASE DE REVELATEUR
Abrégé
(EN)
A method for manufacturing a photosensitive resin plate comprising an exposure step (1) of forming a latent image on a photosensitive resin layer by irradiating active beam on a plate having a water−developable photosensitive resin layer, a developing step (2) of forming a relief image from the latent image by dissolving or dispersing the photosensitive resin layer with the latent image formed thereon in developer mainly consisting of water, and a drying step (3) of removing the developer from the plate with the relief image formed thereon. The photosensitive resin layer component generated in the developing step is recycled as photosensitive resin by performing vacuum distillation of the dissolved or dispersed developer, and residues by the vacuum distillation are solidified. A treatment device of the developer containing the photosensitive resin layer component for the photosensitive resin printing plate comprising a vaporizer for evacuating the developer and a cooler for condensing and collecting the vaporized developer, and further comprising an attachable/detachable internal container in the vaporizer. The developer generated by the development of the photosensitive resin printing plate, in particular, the water−developable photosensitive resin plate can be recycled without reducing the developing speed or generating coagulation of the photosensitive resin layer component.
(FR)
L'invention concerne un procédé de fabrication d'une plaque d'impression recouverte d'une résine photosensible. Ce procédé comprend : une étape d'insolation (1) qui consiste à former une image latente sur une couche de résine photosensible par projection d'un faisceau actif sur une plaque recouverte d'une couche de résine photosensible pouvant être développée à l'eau ; une étape de développement (2) qui consiste à former une image en relief à partir de l'image latente par dissolution ou dispersion de la couche de résine photosensible et de l'image latente formée sur cette dernière dans un révélateur constitué principalement d'eau ; et une étape de séchage (3) qui consiste à faire partir le révélateur de la plaque comportant l'image en relief. Le composant de la couche de résine photosensible produit au cours de l'étape de développement est recyclé sous forme de résine photosensible au moyen d'une distillation sous vide du révélateur dissout ou dispersé et les résidus de la distillation sous vide sont solidifiés. L'invention concerne également un dispositif de traitement du révélateur contenant le composant de la couche de résine photosensible pour la plaque d'impression recouverte d'une résine photosensible et comprenant un vaporisateur servant à évacuer le révélateur et un refroidisseur servant à condenser et à recueillir le révélateur vaporisé ainsi qu'un récipient interne attachable et détachable situé dans le vaporisateur. Le révélateur produit par le développement de la plaque d'impression recouverte d'une résine photosensible et, notamment, la plaque recouverte d'une résine photosensible pouvant être développée à l'eau, peuvent être recyclés sans réduire la vitesse de développement ou entraîner une coagulation du composant de la couche de résine photosensible.
Également publié en tant que
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international