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Paramétrages

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1. WO2003003429 - SYSTEME DE PROJECTION OPTIQUE, SYSTEME D'EXPOSITION ET PROCEDE

Numéro de publication WO/2003/003429
Date de publication 09.01.2003
N° de la demande internationale PCT/JP2002/005878
Date du dépôt international 12.06.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 11.12.2002
CIB
G02B 13/24 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
13Objectifs optiques spécialement conçus pour les emplois spécifiés ci-dessous
24pour reproduire ou copier à de courtes distances de l'objet
G02B 17/08 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
17Systèmes avec surfaces réfléchissantes, avec ou sans éléments de réfraction
08Systèmes catadioptriques
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G02B 13/24
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
13Optical objectives specially designed for the purposes specified below
24for reproducing or copying at short object distances
G02B 17/08
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
17Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
08Catadioptric systems
G02B 17/0892
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
17Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
08Catadioptric systems
0892specially adapted for the UV
G03F 7/70225
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70225Catadioptric systems, i.e. documents describing optical design aspect details
G03F 7/70233
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70233Optical aspects of catoptric systems
G03F 7/70358
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70358Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
Déposants
  • NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331, JP
Inventeurs
  • OMURA, Yasuhiro; JP
  • SHIRAISHI, Naomasa; JP
  • TANAKA, Issei; JP
  • OWA, Soichi; JP
  • OZAWA, Toshihiko; JP
  • NIISAKA, Shunsuke; JP
Mandataires
  • YAMAGUCHI, Takao; Daiichi Bldg., 10, Kanda-tsukasacho 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo 101-0048, JP
Données relatives à la priorité
2001-19612328.06.2001JP
2001-24332010.08.2001JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE SYSTEM AND METHOD
(FR) SYSTEME DE PROJECTION OPTIQUE, SYSTEME D'EXPOSITION ET PROCEDE
Abrégé
(EN)
A projection optical system having a good optical performance without being substantially affected by double refraction even if an optical material having an intrinsic double refraction such as fluorite is used. An projection optical system (400) for forming the reduction image of a first plane (R) onto a second plane (W), comprising a first−group light transmitting member formed to provide an approximate agreement of a crystal axis [100] with an optical axis, and a second−group light transmitting member formed to provide an approximate agreement of a crystal axis [100] with an optical axis. The first−group and second−group light transmitting members are so positionally related that one is rotated 45° from the other around the optical axis, and they are both disposed on an optical path between a pupil position (20) on the second plane side and the second plane.
(FR)
L'invention concerne un système de projection optique possédant une bonne performance optique sans être sensiblement affecté par une biréfringence même lorsqu'on utilise un matériau optique à biréfringence intrinsèque tel que la fluorine. Ledit système de projection (400) optique utilisé pour former une réduction d'image d'un premier plan (R) sur un second plan (W) comprend un élément d'émission lumineuse d'un premier groupe formé de façon à fournir une concordance approximative entre un axe de cristal (100) et un axe optique, et un élément d'émission lumineuse d'un second groupe formé de façon à fournir une concordance approximative entre un axe de cristal (100) et un axe optique. Les éléments d'émission lumineuse des premier et second groupes sont positionnellement associés de sorte que lorsque l'un d'eux tourne de 45° autour de l'axe optique par rapport à l'autre, ils sont tous deux disposés sur un chemin optique entre une position de la pupille (20) sur le côté du second plan et ledit second plan.
Également publié en tant que
RU2004109913
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