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Paramétrages

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1. WO2003003405 - DISPOSITIF ET PROCEDE DE DECOUPLAGE RF ET DE REGULATION DE TENSION DE POLARISATION DANS UN REACTEUR PLASMA

Numéro de publication WO/2003/003405
Date de publication 09.01.2003
N° de la demande internationale PCT/US2002/020455
Date du dépôt international 27.06.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 20.12.2002
CIB
H01J 37/32 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
CPC
H01J 37/32091
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32082Radio frequency generated discharge
32091the radio frequency energy being capacitively coupled to the plasma
H01J 37/32165
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32082Radio frequency generated discharge
32137controlling of the discharge by modulation of energy
32155Frequency modulation
32165Plural frequencies
H01J 37/32174
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32082Radio frequency generated discharge
32174Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
H01J 37/32706
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
32697Electrostatic control
32706Polarising the substrate
Déposants
  • LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway Fremont, CA 94538, US (AllExceptUS)
  • FISCHER, Andreas [DE/US]; US (UsOnly)
Inventeurs
  • FISCHER, Andreas; US
Mandataires
  • GENCARELLA, Michael, L.; Martine & Penilla, LLP Suite 170 710 Lakeway Drive Sunnyvale, CA 94085, US
Données relatives à la priorité
09/895,36329.06.2001US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) APPARATUS AND METHOD FOR RADIO FREQUENCY DE-COUPLING AND BIAS VOLTAGE CONTROL IN A PLASMA REACTOR
(FR) DISPOSITIF ET PROCEDE DE DECOUPLAGE RF ET DE REGULATION DE TENSION DE POLARISATION DANS UN REACTEUR PLASMA
Abrégé
(EN)
Provided is a method and apparatus for controlling a bias voltage over a wide range and for de-coupling dual radio frequency (RF) currents to allow for independent control of plasma density and ion energy of a plasma for processing a substrate. An exemplary apparatus provides a plasma processing chamber which includes a bottom electrode configured to hold a substrate and first and second RF power supplies being connected to the bottom electrode. Also included is a top electrode which is electrically isolated from a top ground extension. A filter array defining a set of filter settings is included. A switch is coupled to the top electrode and the switch is configured to interconnect the top electrode to one of the filter settings. The filter settings are configured to enable or disable RF current generated from one or both of the RF power supplies from passing through the top electrode.
(FR)
L'invention concerne un procédé et un dispositif permettant de réguler la tension de polarisation sur une large gamme de fréquences et de découpler des courants à fréquence radio (RF) double pour obtenir une régulation indépendante de la densité du plasma et de l'énergie ionique d'un plasma, pour traiter un substrat. Dans un mode de réalisation, le dispositif comprend une chambre de traitement au plasma équipée d'une électrode inférieure conçue pour supporter un substrat et une première et seconde alimentation en énergie RF reliées à l'électrode inférieure. Le dispositif comprend également une électrode supérieure isolée électriquement par rapport à une surface supérieure. Ce dispositif comprend également un réseau de filtres comprenant une série de filtres réglés différemment. Un commutateur relié à l'électrode supérieure est conçu pour relier l'électrode supérieure à un des filtres. Les filtres sont conçus pour laisser passer le courant RF généré par la ou les alimentations en énergie RF par l'électrode supérieure ou pour empêcher que le courant RF ne passe par l'électrode supérieure.
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