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1. (WO2002095804) PROCEDE ET DISPOSITIF POUR EFFECTUER LE TRAITEMENT THERMIQUE DE SUBSTRATS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2002/095804 N° de la demande internationale : PCT/EP2002/005683
Date de publication : 28.11.2002 Date de dépôt international : 23.05.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 18.12.2002
CIB :
C23C 16/48 (2006.01) ,C30B 31/12 (2006.01) ,C30B 33/02 (2006.01) ,H01L 21/00 (2006.01) ,H05B 3/00 (2006.01)
Déposants : HAUF, Markus[DE/DE]; DE (UsOnly)
STRIEBEL, Christoph[DE/DE]; DE (UsOnly)
MATTSON THERMAL PRODUCTS GMBH[DE/DE]; Daimlerstr. 10 89160 Dornstadt, DE (AllExceptUS)
Inventeurs : HAUF, Markus; DE
STRIEBEL, Christoph; DE
Mandataire : KLANG, Alexander, H. ; Wagner & Geyer Gewürzmühlstr. 5 80538 München, DE
Données relatives à la priorité :
101 25 318.423.05.2001DE
102 22 879.523.05.2002DE
Titre (EN) METHOD AND DEVICE FOR THE THERMAL TREATMENT OF SUBSTRATES
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF POUR EFFECTUER LE TRAITEMENT THERMIQUE DE SUBSTRATS
(DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM THERMISCHEN BEHANDELN VON SUBSTRATEN
Abrégé : front page image
(EN) The object of the invention is to measure temperature using pyrometers, in a simple and economic way, enabling precise temperature measurement, even for low temperatures. The invention presents a device and method for thermally treating substrates, wherein the substrate is exposed to at least a first and at least a second radiation; the predetermined wavelengths of the first radiation are absorbed between the first radiation source and the substrate; a radiation from the substrate is measured in the predetermined wavelength using a radiation detector arranged on the same side as a second radiation source; the second radiation from the second radiation source is modulated and determined.
(FR) L'objectif de l'invention est de réaliser une mesure de température au moyen de pyromètres, de manière simple et économique, qui donne des résultats précis même en présence de faibles températures. A cet effet, on fait appel à un procédé et à un dispositif pour effectuer le traitement thermique de substrats, caractérisés en ce que le substrat est exposé à au moins un premier et au moins un deuxième rayonnement ; des longueurs d'onde prédéterminées du premier rayonnement sont absorbées entre une première source de rayonnement et le substrat ; un rayonnement provenant du substrat est mesuré à la longueur d'onde prédéterminée au moyen d'un détecteur de rayonnement placé sur le même côté qu'une deuxième source de rayonnement ; le deuxième rayonnement émis par la deuxième source de rayonnement est modulé puis déterminé.
(DE) Um auf eine einfache und kostengünstige Weise eine auf Pyrometern basierende Temperaturmessung vorzusehen, die eine genaue Temperaturmessung auch bei geringen Temperaturen ermöglicht, gibt die vorliegende Erfindung eine Vorrichtung und ein Verfahren zum thermischen Behandeln von Substraten an, bei der bzw. bei dem das Substrat mit wenigstens einer ersten und wenigstens einer zweiten Strahlung bestrahlt wird, vorgegebene Wellenlängen der ersten Strahlung zwischen einer ersten Strahlungsquelle und dem Substrat absorbiert werden, eine vom Substrat kommende Strahlung an der vorgegebenen Wellenlänge mit einem Strahlungsdetektor, der auf der selben Seite wie eine zweite Strahlungsquelle angeordnet ist, gemessen wird, die von der zweiten Strahlungsquelle ausgehende zweite Strahlung moduliert wird und die von der zweiten Strahlungsquelle ausgehende zweite Strahlung ermittelt wird.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)