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1. (WO2002095803) PROCEDE ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT THERMIQUE DE SUBSTRATS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/095803    N° de la demande internationale :    PCT/EP2002/004791
Date de publication : 28.11.2002 Date de dépôt international : 02.05.2002
CIB :
C23C 16/48 (2006.01), C30B 31/12 (2006.01), C30B 33/02 (2006.01), H01L 21/00 (2006.01), H05B 3/00 (2006.01)
Déposants : MATTSON THERMAL PRODUCTS GMBH [DE/DE]; Daimlerstr. 10 89160 Dornstadt (DE) (Tous Sauf US).
HAUF, Markus [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
STRIEBEL, Christoph [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : HAUF, Markus; (DE).
STRIEBEL, Christoph; (DE)
Données relatives à la priorité :
101 25 318.4 23.05.2001 DE
Titre (DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUM THERMISCHEN BEHANDELN VON SUBSTRATEN
(EN) METHOD AND DEVICE FOR THERMALLY TREATING SUBSTRATES
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT THERMIQUE DE SUBSTRATS
Abrégé : front page image
(DE)Um auf ein einfache und kostengünstige Weise eine auf Pyrometern basierende Temperaturmessung vorzusehen, die ine genaue Temperaturmessung auch bei geringen Temperaturen ermöglicht, gibt die vorliegende Erfindung eine Vorrichtung und ein Verfahren zum thermischen Behandeln von Substraten an, bei der bzw. bei dem das Substrat mit wenigstens eine ersten und wenigstens einer zweiten Strahlung bestrahlt wird, vorgegebene Wellenlängen der ersten Strahlung zwischen einer ersten Strahlungsquelle und dem Substrat absorbiert werden, eine vom Substrat kommende Strahlung an der vorgegebenen Wellenlänge mit einem Strahlungsdetektor, der auf der selben Seite wie eine zweite Strahlungsquelle angeordnet ist, gemessen wird, die von der zweiten Strahlungsquelle ausgehende zweite Strahlung moduliert wird und die von der zweiten Strahlungsquelle ausgehende zweite Strahlung ermittelt wird.
(EN)The invention relates to a simple and economical way to measure temperature based on pyrometers, enabling temperature to be measured in a precise manner even when said temperatures are low. Disclosed is a device and a method for thermal treatment of substrates, wherein the substrate is irradiated with at least first and second rays; predefined wavelengths of the first rays are absorbed between a first radiation source and the substrate; rays coming from the substrate are measured at the predefined wavelength with a radiation detector which is disposed on the same side as a second radiation source; the second rays emitted by the second radiation source are modulated and the second rays emitted by the second radiation source are determined.
(FR)L'objectif de la présente invention est de réaliser, à l'aide d'un pyromètre, une mesure précise de température, qui soit simple et économique, même à basses températures. Cet objectif est atteint par un dispositif et par un procédé de traitement thermique de substrats. Selon ce procédé, le substrat est exposé à au moins un premier rayonnement et à au moins un second rayonnement, des longueurs d'ondes prédéfinies du premier rayonnement entre une première source de rayonnement et le substrat sont absorbées, un rayonnement de longueur d'onde prédéfinie, provenant du substrat, est mesuré à l'aide d'un détecteur de rayonnement qui est monté du même côté qu'une seconde source de rayonnement, le second rayonnement issu de la seconde source de rayonnement est modulé, puis le second rayonnement issu de la seconde source de rayonnement est déterminé.
États désignés : CA, CN, IL, JP, KR, SG, US.
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)