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1. (WO2002095328) PROCEDE ET APPAREIL DE MESURE DE DIMENSIONS D'UN MOTIF FORME A L'AIDE D'OUTILS D'EXPOSITION LITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/095328    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/012977
Date de publication : 28.11.2002 Date de dépôt international : 24.04.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    26.06.2002    
CIB :
G01B 11/02 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON PRECISON, INC. [US/US]; 1399 Shoreway Road, Belmont, CA 94002-4107 (US)
Inventeurs : GRODNENSKY, Ilya; (US).
JOHNSON, Eric, R.; (US).
SLONAKER, Steve; (US)
Mandataire : WHITHAM, Michael, E.; Whitham, Curtis & Christofferson, P.C., Suite 340, 11491 Sunset Hills Road, Reston, VA 20190 (US)
Données relatives à la priorité :
09/861,541 22.05.2001 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR DIMENSION MEASUREMENT OF A PATTERN FORMED BY LITHOGRAPHIC EXPOSURE TOOLS
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DE MESURE DE DIMENSIONS D'UN MOTIF FORME A L'AIDE D'OUTILS D'EXPOSITION LITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)Increased accuracy of measurement of variation of a critical dimension (CD) is achieved through measurement of area of a test mark (18, 18') by detection of intensity of radiation such as broadband light with which at least a portion of a test mark (18, 18') is imaged. The test mark (18, 18') is preferably formed by partial lithographic exposures of overlapping features, preferably lines having a width approximating a critical dimension (CD) of interest and at a shallow angle to each other such that the test mark (18, 18') has the shape of a parallelogram or rhombus.
(FR)Une précision augmentée de mesure de variation d'une dimension critique (CD) est atteinte par le biais de la mesure d'une zone d'un marquage test (18, 18'), par le biais de la détection de l'intensité de rayonnement, notamment de la lumière de bande large, au moyen de laquelle on forme l'image d'au moins une partie d'un marquage test (18, 18'). Le marquage test (18, 18') est de préférence formé par des expositions lithographiques partielles dont les caractéristiques se chevauchent, et de préférence par des bandes présentant une largeur s'approchant d'une dimension critique (CD) à examiner, et formant un angle relativement faible, de sorte que le marquage test (18, 18') constitue la forme d'un parallélogramme ou d'un rhombe.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)