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1. (WO2002094714) PROCEDE DE PRODUCTION DE SILICIUM GRANULAIRE EXTREMEMENT PUR DANS UN LIT FLUIDISE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/094714    N° de la demande internationale :    PCT/EP2002/003973
Date de publication : 28.11.2002 Date de dépôt international : 10.04.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    20.12.2002    
CIB :
B01J 8/00 (2006.01), B01J 8/38 (2006.01), C01B 33/027 (2006.01)
Déposants : SOLARWORLD AKTIENGESELLSCHAFT [DE/DE]; Kurt-Schumacher-Strasse 8-9, 53113 Bonn (DE) (Tous Sauf US).
HEROLD, Heiko [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
HOLDENRIED, H., Günter [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
MLECZKO, Leslaw [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
PFAFFELHUBER, Matthias [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
KÖNIG, Theo [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : HEROLD, Heiko; (DE).
HOLDENRIED, H., Günter; (DE).
MLECZKO, Leslaw; (DE).
PFAFFELHUBER, Matthias; (DE).
KÖNIG, Theo; (DE)
Mandataire : RAU, Albrecht; Königstrasse 2, 90402 Nürnberg (DE)
Données relatives à la priorité :
101 24 848.2 22.05.2001 DE
Titre (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON HOCHREINEM, GRANULAREM SILIZIUM IN EINER WIRBELSCHICHT
(EN) METHOD FOR PRODUCING HIGHLY PURE, GRANULAR SILICON IN A FLUIDISED BED
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE SILICIUM GRANULAIRE EXTREMEMENT PUR DANS UN LIT FLUIDISE
Abrégé : front page image
(DE)Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von hochreinem, granularem Silizium mit schmaler Korngrössenverteilung durch Zersetzung von Silanen oder Halogensilanen in einer Wirbelschicht durch Aufwachsen von Silizium auf Silizium-Saatpartikeln, dadurch gekennzeichnet, dass das siliziumhaltige Gas in einem aufwärts gericteten Strom dem Reaktionsraum zugeführt wird und der fluidisierte Bettinhalt kontinuierlich oder diskontinuierlich einer Sichtung nterzogen wird, indem aus dem fluidisierten Bett ein Partikelstrom einem ausserhalb der Wirbel-schicht angebrachten Sichter zugeführt wird und Partikel mit der gewünschten Grösse abgetrennt und Partikel mit Untermass gegebenenfalls ins Bett zurückgeführt werden. Darüber hinaus betrifft die Erfindung eine Vorrichtung und deren Verwendung zur Durchführung dieses Verfahrens.
(EN)The invention relates to a method for producing highly pure, granular silicon with a narrow particle-size distribution, by the decomposition of silanes or halosilanes in a fluidised bed and by the epitaxial growth of silicon on silicon seed particles. The method is characterised in that the gas containing silicon is supplied to the reaction chamber in an upward flow and the contents of the fluidised bed are separated in a continuous or discontinuous manner, whereby a particle stream from the fluidised bed is supplied to a separator mounted outside the fluidised bed, particles of the desired size are separated and undersized particles are optionally returned to the fluidised bed. The invention also relates to a device and the use thereof for carrying out said method.
(FR)La présente invention concerne un procédé de production de silicium granulaire extrêmement pur présentant une distribution granulométrique étroite, par décomposition de silanes ou de silanes halogénés dans un lit fluidisé par développement d'un dépôt épitaxial de silicium sur des particules de germe de silicium. Ledit procédé est caractérisé en ce que le gaz contenant du silicium est introduit dans la chambre de réaction par un courant ascendant et en ce que le contenu du lit fluidisé est soumis en continu ou en discontinu à un tamisage : un courant de particules issu du lit fluidisé est introduit dans un séparateur disposé en dehors du lit fluidisé, les particules de dimension souhaitée sont séparées et les particules de dimension inférieure sont reconduites vers le lit fluidisé. L'invention concerne en outre un dispositif permettant d'appliquer ce procédé, ainsi que l'utilisation dudit dispositif.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)