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1. (WO2002093260) MASQUE ET PROCEDE DE PRODUCTION ASSOCIE, ELEMENT OPTIQUE ET PROCEDE DE PRODUCTION ASSOCIE, DISPOSITIF OPTIQUE D'ECLAIRAGE FOURNI AVEC LEDIT ELEMENT OPTIQUE ET SYSTEME D'EXPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/093260    N° de la demande internationale :    PCT/JP2002/004622
Date de publication : 21.11.2002 Date de dépôt international : 13.05.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    13.11.2002    
CIB :
G03F 1/00 (2012.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP) (Tous Sauf US).
GOTO, Akihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : GOTO, Akihiro; (JP)
Mandataire : YAMAGUCHI, Takao; Daiichi Bldg., 10, Kanda-tsukasacho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 101-0048 (JP)
Données relatives à la priorité :
2001-141329 11.05.2001 JP
Titre (EN) MASK AND PRODUCTION METHOD THEREFOR, OPTICAL ELEMENT AND PRODUCTION METHOD THEREFOR, AND ILLUMINATING OPTICDAL DEVICE PROVIDED WITH THE OPTICAL ELEMENT AND EXPOSURE SYSTEM
(FR) MASQUE ET PROCEDE DE PRODUCTION ASSOCIE, ELEMENT OPTIQUE ET PROCEDE DE PRODUCTION ASSOCIE, DISPOSITIF OPTIQUE D'ECLAIRAGE FOURNI AVEC LEDIT ELEMENT OPTIQUE ET SYSTEME D'EXPOSITION
Abrégé : front page image
(EN)A method of producing a diffraction optical element capable of efficiently converting an incident light flux into a light flux having a specified section shape. A specified light flux section is divided to obtain a plurality of first light flux section portion areas (S11). A total of lengths of the plurality of first light flux section portion areas is calculated (S12), and the total length is equally divided to obtain a specified unit length (S13). A plurality of second light flux section portion areas are obtained based on the specified unit length (S14). A specified optical element is divided into a plurality of partial optical elements using coordinate data on a specified optical element corresponding to the coordinates of a plurality of second light flux section portion areas (S15). A plurality of partial optical elements are densely disposed to constitute a basic optical element (S16).
(FR)L'invention concerne un procédé de production d'un élément optique à diffraction pouvant convertir efficacement un flux lumineux incident en un flux lumineux présentant une forme de partie de flux déterminée. Une partie de flux lumineux déterminée est divisée de sorte à obtenir une pluralité de zones de parties de premier flux lumineux (S11). Le total des longueurs de cette pluralité de zones de parties de premier flux lumineux est calculé (S12) et la longueur totale est divisée de manière égale, de sorte à obtenir une longueur d'unités déterminée (S13). Une pluralité de zones de parties de deuxième flux lumineux est obtenue en fonction de cette longueur d'unités déterminée (S14). Un élément optique déterminé est divisé en une pluralité d'éléments optiques partiels au moyen de données de coordonnées sur un élément optique déterminé correspondant aux coordonnées de la pluralité de zones de parties de deuxième flux lumineux (S15). Une pluralité d'éléments optiques partiels est disposée de manière dense pour constituer un élément optique de base (S16).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)