WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2002093200) PROCEDE D'INSPECTION A DEPHASAGE AVANCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2002/093200 N° de la demande internationale : PCT/US2001/051619
Date de publication : 21.11.2002 Date de dépôt international : 12.11.2001
CIB :
G01N 21/956 (2006.01) ,G03F 1/00 (2012.01)
Déposants : KLA-TENCOR CORPORATION[US/US]; 160 Rio Robles San Jose, CA 95134, US
Inventeurs : EMERY, David, G.; US
Mandataire : SMYRSKI, Steven, W. ; Smyrski & Livesay, LLP 3310 Airport Avenue, SW Santa Monica, CA 90405, US
Données relatives à la priorité :
60/248,14913.11.2000US
Titre (EN) ADVANCED PHASE SHIFT INSPECTION METHOD
(FR) PROCEDE D'INSPECTION A DEPHASAGE AVANCE
Abrégé :
(EN) A method and apparatus for inspecting patterned transmissive substrates, such as photomasks, for unwanted particles and features occuring on the transmissive as well as pattern defects. A transmissive substrate is illuminated by a laser through an optical system comprised of a laser scanning system, individual transmitted and reflected light collection optics and detectors collect and generate signals representative of the light transmitted and reflected by the substrate. The defect identification of the substrate is performed using only those transmitted and reflected light signals, and other signals derived from them, such as greyscale representations and image features. Defect identification is performed using a pattern inspection algorithm by comparing image feature representations of the present substrate with an idealized representation thereof, and using an advanced phase shift algorithm that accounts for particular types of expected anomalies.
(FR) L'invention concerne un procédé et un appareil d'inspection de substrats de transmission à motif, comme des photomasques pour des particules et des caractéristiques non-désirées se produisant sur les défauts de motif aussi bien que sur ceux de transmission. Un substrat de transmission est éclairé par un laser grâce à un système optique composé d'un appareil à balayage laser, des éléments optiques de collection de la lumière réfléchie et transmise de manière individuelle et des détecteurs collectent et produisent des signaux représentatifs de la lumière réfléchie et transmise par le substrat. On obtient l'identification par défaut du substrat en n'utilisant que les signaux de lumière réfléchie et transmise et d'autres signaux dérivés de ceux-ci comme des représentations par l'échelle des gris et des caractéristiques d'image. On réalise l'identification par défaut au moyen d'un algorithme d'inspection de motif du présent substrat en comparant l'image d'une représentation idéale de celui-ci et en utilisant un algorithme de déphasage avancé qui prend en compte des types particuliers d'anomalies attendues.
États désignés : JP, KR
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)