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1. (WO2002092871) DISPOSITIF ET PROCEDE DE REVETEMENT ET/OU DE TRAITEMENT DE SURFACE DE SUBSTRATS PAR PLASMA BASSE PRESSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/092871    N° de la demande internationale :    PCT/EP2002/002397
Date de publication : 21.11.2002 Date de dépôt international : 05.03.2002
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. [DE/DE]; Leonrodstrasse 54 80636 München (DE) (Tous Sauf US).
JUNG, Thomas [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : JUNG, Thomas; (DE)
Mandataire : PFENNING, MEINIG & PARTNER GBR; Mozartstrasse 17 80336 München (DE)
Données relatives à la priorité :
101 23 583.6 15.05.2001 DE
Titre (DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR BESCHICHTUNG UND/ODER OBERFLÄCHENBEHANDLUNG VON SUBSTRATEN MITTELS NIEDERDRUCK-PLASMA
(EN) DEVICE AND METHOD FOR COATING AND/OR TREATING THE SURFACES OF SUBSTRATES USING LOW-PRESSURE PLASMA
(FR) DISPOSITIF ET PROCEDE DE REVETEMENT ET/OU DE TRAITEMENT DE SURFACE DE SUBSTRATS PAR PLASMA BASSE PRESSION
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Beschichtung und/oder Oberflächenbehandlung von Substraten mittels Niederdruck-Plasma, in deren Innenraum mindestens ein Substrat angeordnet ist. Die Glimmentladung wird dabei mittels Kathoden und Anoden erzeugt. Ebenso betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Oberflächenbehandlung und/oder Beschichtung von Substraten mittels Niederdruck-Plasma in besagter Vorrichtung. Verwendung findet die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Oberflächenbehandlung von Substraten, beispielsweise der Reinigung und Aktivierung sowie zur Herstellung von Verschleißschutz-, Korrosionsschutz- oder Antihaftschichten.
(EN)The invention relates to a device for coating and/or treating the surfaces of substrates using low-pressure plasma, whereby at least one substrate is placed inside the device. The device comprises a cathode, an anode and an auxiliary electrode provided with openings. The glow discharge is generated by means of cathodes and anodes. The invention also relates to a method for coating and/or treating the surfaces of substrates using low-pressure plasma inside said device. The inventive device is used for treating the surfaces of substrates, for example, for cleaning and activating as well as for producing wear protective layers, corrosion protective layers or antistick layers.
(FR)L'invention concerne un dispositif de revêtement et/ou de traitement de surface de substrats par plasma basse pression, l'intérieur desdits substrats contenant au moins un substrat. La décharge lumineuse est produite au moyen de cathodes et d'anodes. L'invention concerne également un procédé de revêtement et/ou de traitement de surface de substrats par plasma basse pression, mis en oeuvre dans ledit dispositif. Le dispositif selon l'invention sert au traitement de surface de substrats, par exemple pour le nettoyage et l'activation, ainsi que pour la fabrication de couches anti-usure, anti-corrosion et anti-adhésives.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)