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1. WO2002092871 - DISPOSITIF ET PROCEDE DE REVETEMENT ET/OU DE TRAITEMENT DE SURFACE DE SUBSTRATS PAR PLASMA BASSE PRESSION

Lien permanent
Numéro de publication WO/2002/092871
Date de publication 21.11.2002
N° de la demande internationale PCT/EP2002/002397
Date du dépôt international 05.03.2002
CIB
H01J 37/32 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
CPC
H01J 37/32009
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
H01J 37/32018
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32018Glow discharge
H01J 37/32587
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
32532Electrodes
32587Triode systems
Déposants
  • FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. [DE]/[DE] (AllExceptUS)
  • JUNG, Thomas [DE]/[DE] (UsOnly)
Inventeurs
  • JUNG, Thomas
Mandataires
  • PFENNING, MEINIG & PARTNER GBR
Données relatives à la priorité
101 23 583.615.05.2001DE
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR BESCHICHTUNG UND/ODER OBERFLÄCHENBEHANDLUNG VON SUBSTRATEN MITTELS NIEDERDRUCK-PLASMA
(EN) DEVICE AND METHOD FOR COATING AND/OR TREATING THE SURFACES OF SUBSTRATES USING LOW-PRESSURE PLASMA
(FR) DISPOSITIF ET PROCEDE DE REVETEMENT ET/OU DE TRAITEMENT DE SURFACE DE SUBSTRATS PAR PLASMA BASSE PRESSION
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Abrégé
(DE)
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Beschichtung und/oder Oberflächenbehandlung von Substraten mittels Niederdruck-Plasma, in deren Innenraum mindestens ein Substrat angeordnet ist. Die Glimmentladung wird dabei mittels Kathoden und Anoden erzeugt. Ebenso betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Oberflächenbehandlung und/oder Beschichtung von Substraten mittels Niederdruck-Plasma in besagter Vorrichtung. Verwendung findet die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Oberflächenbehandlung von Substraten, beispielsweise der Reinigung und Aktivierung sowie zur Herstellung von Verschleißschutz-, Korrosionsschutz- oder Antihaftschichten.
(EN)
The invention relates to a device for coating and/or treating the surfaces of substrates using low-pressure plasma, whereby at least one substrate is placed inside the device. The device comprises a cathode, an anode and an auxiliary electrode provided with openings. The glow discharge is generated by means of cathodes and anodes. The invention also relates to a method for coating and/or treating the surfaces of substrates using low-pressure plasma inside said device. The inventive device is used for treating the surfaces of substrates, for example, for cleaning and activating as well as for producing wear protective layers, corrosion protective layers or antistick layers.
(FR)
L'invention concerne un dispositif de revêtement et/ou de traitement de surface de substrats par plasma basse pression, l'intérieur desdits substrats contenant au moins un substrat. La décharge lumineuse est produite au moyen de cathodes et d'anodes. L'invention concerne également un procédé de revêtement et/ou de traitement de surface de substrats par plasma basse pression, mis en oeuvre dans ledit dispositif. Le dispositif selon l'invention sert au traitement de surface de substrats, par exemple pour le nettoyage et l'activation, ainsi que pour la fabrication de couches anti-usure, anti-corrosion et anti-adhésives.
Également publié en tant que
AU2002312757
DE000010123583
EP1388161
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international
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