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1. (WO2002092497) PROCEDE DE FABRICATION D'UN FILTRE MOLECULAIRE ET APPAREIL FORME PAR CE PROCEDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/092497    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/014773
Date de publication : 21.11.2002 Date de dépôt international : 10.05.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    03.12.2002    
CIB :
B81B 1/00 (2006.01)
Déposants : CALIFORNIA INSTITUTE OF TECHNOLOGY [US/US]; 1200 East California Boulevard, Pasadena, CA 92115 (US) (Tous Sauf US).
SCHERER, Axel [DE/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : SCHERER, Axel; (US)
Mandataire : DAWES, Daniel, L.; Myers, Dawes & Andras LLP, Suite 1150, 19900 MacArthur Blvd., Irvine, CA 92612 (US)
Données relatives à la priorité :
09/855,404 15.05.2001 US
Titre (EN) METHOD FOR FABRICATION OF A MOLECULAR FILTER AND APPARATUS FORMED BY THE SAME
(FR) PROCEDE DE FABRICATION D'UN FILTRE MOLECULAIRE ET APPAREIL FORME PAR CE PROCEDE
Abrégé : front page image
(EN)The invention is a method for fabricating molecular filters (20) which can separate objects approximately 1-5 nm in range, where the filtration size is controlled by using thin films of materials and technologies to form a filtration channel or pore (22) in a middle thin film layer in a multilayered structure. Lithography is used to define two offset arrays of blind holes into the opposing sides of a multi-layer membrane. The blind holes extend across a thin central filtration layer. A selective etch is used to attack the filtration to form a communicating channel between the two holes (10, 12). The only connection between one side of the filter and the other is through the channel in the filter layer, whose thickness, d, determines the largest size object which can traverse the filter.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication de filtres moléculaires permettant de séparer des objets approximativement dans une plage de 1 à 5 nm, la taille de filtration étant régulée au moyen de films minces de matières et par des technologies consistant à former un pore ou un canal de filtration dans une couche de film mince centrale à l'intérieur d'une structure multicouche. On fait appel à la lithographie pour définir deux ensembles décalés de trous aveugles dans les côtés opposés d'une membrane multicouche. Ces trous aveugles s'étendent à travers une mince couche de filtration centrale. La couche de filtration est attaquée par gravure sélective de façon à former un canal de communication entre les deux trous. Les deux côtés du filtre sont reliés uniquement par l'intermédiaire de ce canal dans la couche de filtration, dont l'épaisseur d détermine la taille maximale d'un objet pouvant passer à travers le filtre.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)