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1. (WO2002091807) SOURCE DE PHOTONS DE HAUTE ÉNERGIE À FLUX INTENSE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/091807    N° de la demande internationale :    PCT/GB2002/002063
Date de publication : 14.11.2002 Date de dépôt international : 03.05.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    28.11.2002    
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H05G 2/00 (2006.01)
Déposants : POWERLASE LIMITED [GB/GB]; Imperial House, Link 10, Napier Way, Crawley, West Sussex RH10 9RA (GB) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NE, NL, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW only).
TAYLOR, Alan [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
KLUG, David [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
BARNETT, Christopher [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
MERCER, Ian [GB/GB]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : TAYLOR, Alan; (GB).
KLUG, David; (GB).
BARNETT, Christopher; (GB).
MERCER, Ian; (GB)
Mandataire : ROBERTS, Gwilym, Vaughan; Kilburn & Strode, 20 Red Lion Street, London WC1R 4PJ (GB)
Données relatives à la priorité :
0111204.4 08.05.2001 GB
Titre (EN) HIGH FLUX, HIGH ENERGY PHOTON SOURCE
(FR) SOURCE DE PHOTONS DE HAUTE ÉNERGIE À FLUX INTENSE
Abrégé : front page image
(EN)A high energy photon source for generating EUV radiation comprises a nozzle emitting a supersonic stream of source material, a laser or electrical/magnetic pre-ionisation mechanism and a laser or electrical/magnetic excitation mechanism and a skimmer plate between them providing a collimated high density beam of source material for excitation.
(FR)L'invention concerne une source de photons de haute énergie pour générer des rayons EUV. Cette source comprend une buse qui émet un flux supersonique de matériau source, un mécanisme de préionisation laser ou électrique/magnétique, un mécanisme d'excitation laser ou électrique/magnétique et une plaque de filtrage intermédiaire, permettant de créer ainsi un faisceau collimaté de haute densité du matériau source pour l'excitation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)