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1. (WO2002091075) ALGORITHME PERMETTANT D'AMELIORER LA DUREE DE VIE DE COMPOSANTS ESSENTIELS DANS UN SYSTEME LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/091075    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/014851
Date de publication : 14.11.2002 Date de dépôt international : 08.05.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    12.11.2002    
CIB :
G02F 1/35 (2006.01)
Déposants : SPECTRA PHYSICS, INC. [US/US]; 1335 Terra Bella Avenue, Mountain View, CA 94043 (US) (Tous Sauf US).
GRUBER, Lukas [IT/US]; (US) (US Seulement).
HODGSON, Norman [GB/US]; (US) (US Seulement).
HOFFMAN, Hanna, J. [US/US]; (US) (US Seulement).
ANGSTENBERGER, Joerg [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : GRUBER, Lukas; (US).
HODGSON, Norman; (US).
HOFFMAN, Hanna, J.; (US).
ANGSTENBERGER, Joerg; (DE)
Mandataire : CHOW, Y., Ping; Heller Ehrman White & McAuliffe LLP, 275 Middlefield Road, Menlo Park, CA 94025-3506 (US)
Données relatives à la priorité :
60/289,643 08.05.2001 US
Titre (EN) ALGORITHM FOR ENHANCING THE LIFETIME OF CRITICAL COMPONENTS IN A LASER SYSTEM
(FR) ALGORITHME PERMETTANT D'AMELIORER LA DUREE DE VIE DE COMPOSANTS ESSENTIELS DANS UN SYSTEME LASER
Abrégé : front page image
(EN)A method and system are described aimed at substantially increasing the lifetime of sensitive optical elements subjected to high power laser radiation. The lifetime enhancement is accomplished by spatially distributing the laser beam spots both globally and locally according to algorithms that are custom tailored to the subject element as well as the system and application needs. The methods of the invention are particularly well-suited to non-linear crystals used to convert radiation from high repetition rate, diode-pumped laser systems into the UV spectral range, where lifetime requirements are particularly challenging. The methods of the invention further enable effective utilization of available experimental data characterizing the element's performance in combination with a stored library of preferred spot scanning patterns that may be executed on the surface of the element according to the selected algorithm.
(FR)L'invention concerne un procédé et un système permettant d'augmenter sensiblement la durée de vie d'éléments optiques sensibles soumis à un rayonnement laser de forte puissance. L'amélioration de la durée de vie peut être opérée par répartition spatiale des points de faisceau laser, à la fois globalement et localement, selon des algorithmes élaborés sur mesure pour l'élément en question et pour les besoins de l'application et du système. Les procédés décrits dans cette invention conviennent tout particulièrement à des cristaux non-linéaires utilisés pour transformer le rayonnement provenant de systèmes laser à pompage par diodes à fréquence de récurrence élevée dans une gamme spectrale d'UV, pour lesquels les exigences de durée de vie sont particulièrement strictes. Les procédés décrits dans cette invention permettent également d'utiliser efficacement des données expérimentales disponibles concernant la performance de l'élément, lesquelles données sont combinées avec une bibliothèque mise en mémoire qui contient des motifs de balayage par points privilégiés pouvant être exécutés sur la surface de l'élément selon un algorithme sélectionné.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)