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1. WO2002090407 - COMPOSITION DE RESINE POUVANT ETRE RETIRE AVEC DE L'EAU NEUTRE ET PROCEDE DE TRAITEMENT AU MOYEN D'UNE TELLE COMPOSITION

Numéro de publication WO/2002/090407
Date de publication 14.11.2002
N° de la demande internationale PCT/JP2001/003701
Date du dépôt international 27.04.2001
CIB
C08F 290/06 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
08COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES ORGANIQUES; LEUR PRÉPARATION OU LEUR MISE EN UVRE CHIMIQUE; COMPOSITIONS À BASE DE COMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES
FCOMPOSÉS MACROMOLÉCULAIRES OBTENUS PAR DES RÉACTIONS FAISANT INTERVENIR UNIQUEMENT DES LIAISONS NON SATURÉES CARBONE-CARBONE
290Composés macromoléculaires obtenus par polymérisation de monomères sur des polymères modifiés par introduction de groupes aliphatiques non saturés terminaux ou latéraux
02sur des polymères modifiés par introduction de groupes non saturés terminaux
06Polymères prévus par la sous-classe C08G54
CPC
C08F 290/06
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
290Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
02on to polymers modified by introduction of unsaturated end groups
06Polymers provided for in subclass C08G
Déposants
  • CHEMIPRO KASEI KAISHA,LIMITED [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • FUKUOKA, Naohiko [JP]/[JP] (UsOnly)
  • MATSUMURA, Akira [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • FUKUOKA, Naohiko
  • MATSUMURA, Akira
Mandataires
  • HANABUSA, Tsuneo
Données relatives à la priorité
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) RESIN COMPOSITION REMOVABLE WITH NEUTRAL WATER AND METHOD OF TREATING WITH THE SAME
(FR) COMPOSITION DE RESINE POUVANT ETRE RETIRE AVEC DE L'EAU NEUTRE ET PROCEDE DE TRAITEMENT AU MOYEN D'UNE TELLE COMPOSITION
Abrégé
(EN)
A curable resin composition removable with neutral water which comprises (A) a polymer having polymerizable unsaturated groups, (B) a crosslinking monomer, (C) a polymerization initiator, and (D) a reactive surfactant having a polymerizable unsaturated group, in particular, a resin composition curable with actinic energy rays and removable with neutral water which comprises (A) a polymer having polymerizable unsaturated groups, (B) a crosslinking monomer, (C) a photoinitiator, and (D) a reactive surfactant having a polymerizable unsaturated group. The composition is usable as a composition for coating materials, printing inks, and print top coatings. Since the composition is removable with neutral water, there is no need of using an organic solvent for cleansing the apparatus used.
(FR)
La présente invention se rapporte à une composition de résine réticulable pouvant être retirée avec de l'eau neutre et comportant (A) un polymère ayant des groupes insaturés polymérisables, (B) un monomère réticulable, (C) un amorceur de polymérisation et (D) un tensioactif réactif ayant un groupe insaturé polymérisable. L'invention se rapporte particulièrement à une composition de résine qui peut être réticulée sous l'effet de rayons actiniques et retirée avec de l'eau neutre et qui comporte (A) un polymère ayant des groupes insaturés polymérisables, (B) un monomère réticulable, (C) un photoamorceur et (D) un tensioactif réactif ayant un groupe insaturé polymérisable. Cette composition peut être utilisée pour des matières de revêtement, des encres d'impression et des couches de finition d'articles imprimés. Du fait que cette composition peut être retirée avec de l'eau neutre, il n'est pas nécessaire d'utiliser un solvant organique pour nettoyer l'appareil utilisé.
Également publié en tant que
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