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1. (WO2002089545) DISPOSITIF A JET ET PROCEDE DESTINE A CE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/089545    N° de la demande internationale :    PCT/SE2002/000807
Date de publication : 07.11.2002 Date de dépôt international : 25.04.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    18.11.2002    
CIB :
B05B 15/02 (2006.01), B05B 17/06 (2006.01), B05C 11/10 (2006.01), B23K 3/06 (2006.01)
Déposants : MYDATA AUTOMATION AB [SE/SE]; Adolfsbergsvägen 11, S-168 66 Bromma (SE) (Tous Sauf US).
HOLM, William [SE/SE]; (SE) (US Seulement).
NILSSON, Kenth [SE/SE]; (SE) (US Seulement).
KRONSTEDT, Johan [SE/SE]; (SE) (US Seulement).
LUNDBERG, Mårten [SE/SE]; (SE) (US Seulement).
BERG, Johan [SE/SE]; (SE) (US Seulement).
BERGMAN, Mikael [SE/SE]; (SE) (US Seulement).
GLAZER, Nicholas [GB/SE]; (SE) (US Seulement)
Inventeurs : HOLM, William; (SE).
NILSSON, Kenth; (SE).
KRONSTEDT, Johan; (SE).
LUNDBERG, Mårten; (SE).
BERG, Johan; (SE).
BERGMAN, Mikael; (SE).
GLAZER, Nicholas; (SE)
Mandataire : AWAPATENT AB; Box 45086, S-104 30 Stockholm (SE)
Données relatives à la priorité :
0101503-1 27.04.2001 SE
Titre (EN) A JETTING DEVICE AND A METHOD AT A JETTING DEVICE
(FR) DISPOSITIF A JET ET PROCEDE DESTINE A CE DISPOSITIF
Abrégé : front page image
(EN)A jetting device and a method for improving the performance of the jetting device for jetting droplets of viscous medium onto a substrate. The jetting device comprises a jetting outlet through which said droplets are jetted. The jetting device further comprises a wall located at the jetting outlet, downstream of the jetting outlet seen in the jetting direction. The wall is provided with an orifice through which jetted droplets are permitted to pass through. A gaseous flow is provided within said space past the jetting outlet such that an adverse effect on the performance of the jetting device is prevented, the adverse effect resulting from the accumulation of viscous medium residue at the jetting outlet.
(FR)La présente invention concerne un dispositif à jet et un procédé destiné à améliorer les performances de ce dispositif à jet de gouttelettes d'un milieu visqueux sur un substrat. Ce dispositif à jet comprend une sortie de jet à travers laquelle le jet de gouttelettes passe. Ce dispositif à jet comprend aussi une paroi située au niveau de la sortie de jet, en aval de cette sortie dans le sens du jet. Cette paroi est percée d'un orifice à travers lequel le jet de gouttelettes peut passer. Un flux de gaz est apporté dans cet espace derrière la sortie de jet de sorte que rien ne vienne entraver les performances de ce dispositif à jet, en l'occurrence l'accumulation de résidus du milieu aqueux au niveau de cette sortie de jet.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)