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1. (WO2002088843) PROCEDE ET APPAREIL D'EXPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/088843    N° de la demande internationale :    PCT/JP2002/004082
Date de publication : 07.11.2002 Date de dépôt international : 24.04.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    09.12.2002    
CIB :
G03F 1/00 (2012.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CANON KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome, Ohta-ku, Tokyo 146-8501 (JP)
Inventeurs : SAITOH, Kenji; (JP).
SUZUKI, Akiyoshi; (JP).
YAMAZOE, Kenji; (JP)
Mandataire : FUJIMOTO, Ryosuke; Tokyo ST Bldg. 9th Floor, 9-4, Hatchobori 4-chome, Chuo-ku, Tokyo 104-0032 (JP)
Données relatives à la priorité :
2001-126759 24.04.2001 JP
2001-369393 03.12.2001 JP
Titre (EN) EXPOSURE METHOD AND APPARATUS
(FR) PROCEDE ET APPAREIL D'EXPOSITION
Abrégé : front page image
(EN)An exposure method comprising the steps of forming onto a mask that arranges a pattern of a contact hole and a plurality of patterns each being smaller than the contact hole pattern, and illuminating the mask using plural kinds of light so as to resolve the desired pattern without the smaller patterns on a target via a projection optical system.
(FR)La présente invention se rapporte à un procédé d'exposition consistant à former un masque sur lequel est disposé un motif de fenêtre de contact ainsi qu'une pluralité de motifs qui sont chacun plus petits que le motif de la fenêtre de contact, et à éclairer le masque au moyen de plusieurs sortes de lumière de manière à projeter sur une cible le motif souhaité sans les motifs plus petits au moyen d'un système optique de projection.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)