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1. (WO2002088434) FORMULATIONS D'ELECTRODEPOSITION D'ALUMINIUM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/088434    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/013832
Date de publication : 07.11.2002 Date de dépôt international : 30.04.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    27.11.2002    
CIB :
C25D 3/44 (2006.01)
Déposants : ALUMIPLATE INCORPORATED [US/US]; 8960 Springbrook Drive, Minneapolis, MN 55433 (US) (AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BR, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GW, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MC, MD, MG, MK, ML, MN, MR, MW, MX, MZ, NE, NL, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SN, SZ, TD, TG, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW only).
FISCHER, Juergen, K., S. [DE/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : FISCHER, Juergen, K., S.; (US)
Mandataire : WHIPPS, Brian, C.; Crompton, Seager & Tufte, LLC, 1221 Nicollet Avenue, Suite 800, Minneapolis, MN 55403-2420 (US)
Données relatives à la priorité :
60/287,651 30.04.2001 US
Titre (EN) ALUMINIUM ELECTROPLATING FORMULATIONS
(FR) FORMULATIONS D'ELECTRODEPOSITION D'ALUMINIUM
Abrégé : front page image
(EN)Electroplating electrolyte compositions including CA•(nA1(C¿3?H¿7?)¿3?(2-n)A1R¿3?) where n is 0 and less than or equal to 2; C is Li, Na, K, Rb, Cs, NR'¿4?, or mixtures thereof wherein R' is H, CH¿3?, C¿2?H¿5?, C¿3?H¿7?, C¿4?H¿9?, C¿5?H¿11?, C¿6?H¿13?, C¿7?H¿15?, C¿8?H¿17?, or mixtures thereof; A is H, F, Cl, Br, or mixtures thereof; R is H, halogen, CH¿3?, C¿2?H¿5?, C¿3?H¿7?, C¿4?H¿9?, C¿5?H¿11?, C¿6?H¿13?, C¿7?H¿15?, C¿8?H¿17?, or mixtures thereof; and an aromatic hydrocarbon, aliphatic hydrocarbon, or mixtures thereof are described. Aluminum and magnesium/aluminum electroplating compositions including C•(nA1(C¿3?H¿7?)¿4?(1-n)A1R¿4?) where n is 0 and less than or equal to 1, where C is a cation such as, li, Na, K, Rb, Cs, or mixtures thereof; R is H or an alkyl such as, CH¿3?, C¿2?H¿5?, C¿3?H¿7?, C¿4?H¿9?, C¿5?H¿11?, C¿6?H¿13?, C¿7?H¿15?, C¿8?H¿17?, or mixtures thereof are also described. The aluminum and magnesium/aluminum electroplating compositions formulation can include a solvent such as, an aromatic hydrocarbon, aliphatic hydrocarbon, or mixtures thereof.
(FR)L'invention concerne des compositions électrolytiques d'électrodéposition comprenant CA.(nAl(C¿3?H¿7?)¿3?(2-n)AlR¿3?), où n est égal à 0 et inférieur ou égal à 2, C est Li, Na, K, Rb, Cs, NR'¿4? ou des mélanges correspondants, R' est H, CH¿3?, C¿2?H¿5?, C¿3?H¿7?, C¿4?H¿9?, C¿5?H¿11?, C¿6?H¿13?, C¿7?H¿15?, C¿8?H¿17? ou des mélanges correspondants, A est H, F, Cl, Br ou des mélanges correspondants, et R est H, halogène, CH¿3?, C¿2?H¿5?, C¿3?H¿7?, C¿4?H¿9?, C¿5?H¿11?, C¿6?H¿13?, C¿7?H¿15?, C¿8?H¿17? ou des mélanges correspondants. L'invention concerne également un hydrocarbure aromatique, un hydrocarbure aliphatique ou des mélanges correspondants. Elle se rapporte en outre à des compositions d'électrodéposition d'aluminium et de magnésium/aluminium comprenant C.(nAl(C¿3?H¿7?)¿4?(1-n)AlR¿4?), où n est égal à 0 et inférieur ou égal à 1, C est un cation tel que Li, Na, K, Rb, Cs ou des mélanges correspondants, et R est H ou un alkyle tel que CH¿3?, C¿2?H¿5?, C¿3?H¿7?, C¿4?H¿9?, C¿5?H¿11?, C¿6?H¿13?, C¿7?H¿15?, C¿8?H¿17? ou des mélanges correspondants. La formulation de ces compositions d'électrodéposition d'aluminium et de magnésium/aluminium peut comprendre un solvant tel qu'un hydrocarbure aromatique, un hydrocarbure aliphatique et des mélanges correspondants.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)