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1. (WO2002088413) CIBLES RENFERMANT TI ET ZR POUR DEPOT PHYSIQUE EN PHASE VAPEUR, ET TECHNIQUES D'UTILISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/088413    N° de la demande internationale :    PCT/US2001/017670
Date de publication : 07.11.2002 Date de dépôt international : 31.05.2001
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    21.12.2001    
CIB :
C23C 14/34 (2006.01), H01L 21/314 (2006.01), H01L 21/316 (2006.01)
Déposants : HONEYWELL INTERNATIONAL INC. [US/US]; 101 Columbia Road Box 2245 Morristown, NJ 07962 (US) (Tous Sauf US).
TURNER, Stephen, P. [GB/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : TURNER, Stephen, P.; (US)
Mandataire : LATWESEN, David, G.; Suite 1300 601 West 1st Avenue Spokane, WA 99201 (US)
Données relatives à la priorité :
60/287,880 01.05.2001 US
Titre (EN) SPUTTER TARGETS COMPRISING TI AND ZR
(FR) CIBLES RENFERMANT TI ET ZR POUR DEPOT PHYSIQUE EN PHASE VAPEUR, ET TECHNIQUES D'UTILISATION
Abrégé : front page image
(EN)The invention described herein relates to physical vapor deposition targets comprising both Ti and Zr. The targets can comprise a uniform texture across the target surface and throughout the thickness; and can further have an increased mechanical strength compared to high purity titanium and tantalum. The sputtering targets can be utilized to sputter deposit a thin film; and such thin film can be utilized as a copper barrier layer.
(FR)Cette invention concerne des cibles pour dépôt physique en phase vapeur renfermant à la fois de l'étain et du zirconium. Les cibles peuvent présenter une texture uniforme sur toute la surface visée et sur toute leur épaisseur, avec par ailleurs une résistance mécanique accrue par rapport à du titane et à du tantale de très grande pureté. Les cibles de pulvérisation peuvent servir à déposer un film mince, lequel film peut faire office de couche d'arrêt à la diffusion du cuivre.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)