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1. (WO2002088077) PREPARATIONS DE RESIST COMPRENANT DES POLYMERES POSSEDANT DES GROUPES PENDANTS CONTENANT PLUSIEURS FRAGMENTS LABILES D'ACIDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/088077    N° de la demande internationale :    PCT/US2002/012885
Date de publication : 07.11.2002 Date de dépôt international : 22.04.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    25.11.2002    
CIB :
G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION [US/US]; New Orchard Road, Armonk, NY 10504 (US)
Inventeurs : PUSHKARA, Rao, Varanasi; (US).
LAWSON, Margaret, C.; (US).
LI, Wenjie; (US)
Mandataire : CAPELLA, Steven; International Business Machines Corporation, Dept. 18G, Bldg. 300/482, 2070 Route 52, Hopewell Junction, NY 12533 (US)
Données relatives à la priorité :
09/844,848 27.04.2001 US
Titre (EN) RESIST COMPOSITIONS WITH POLYMERS HAVING PENDANT GROUPS CONTAINING PLURAL ACID LABILE MOIETIES
(FR) PREPARATIONS DE RESIST COMPRENANT DES POLYMERES POSSEDANT DES GROUPES PENDANTS CONTENANT PLUSIEURS FRAGMENTS LABILES D'ACIDE
Abrégé : front page image
(EN)Acid-catalyzed positive resist compositions which are imageable with 193nm radiation and/or possibly other radiation and are developable to form resist structures of improved development characteristics and improved etch resistance are enabled by the use of resist compositions containing imaging polymer having a monomer with a pendant group containing plural acid labile moieties. Preferred pendant groups containing plural acid labile moieties are characterized by the presence of a bulky end group.
(FR)L'invention concerne des préparations de résist positives catalysées par de l'acide, sur lesquelles des images peuvent être formées par un rayonnement de 193 nm et/ou éventuellement d'autres rayonnements, et qui peuvent être développées, de manière que soient formées des structures de résist possédant des caractéristiques de développement améliorées. Une meilleure résistance à l'attaque peut être obtenue par l'utilisation de préparations de résist contenant un polymère pour l'imagerie possédant un monomère à groupe pendant contenant plusieurs fragments labiles d'acide. Les groupes pendants préférés contenant plusieurs fragments labiles d'acide se caractérisent par la présence d'un groupe d'extrémité volumineux.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)