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1. (WO2002086479) MATRICE DE BIOCAPTEURS ET SON PROCEDE DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2002/086479    N° de la demande internationale :    PCT/FR2002/001419
Date de publication : 31.10.2002 Date de dépôt international : 25.04.2002
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    07.10.2002    
CIB :
B01L 3/00 (2006.01), B81B 3/00 (2006.01), G01N 27/00 (2006.01)
Déposants : CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE [FR/FR]; 3, rue Michel Ange, F-75794 Paris Cedex 16 (FR) (Tous Sauf US).
BERGAUD, Christian [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
BELIER, Benoît [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
MARTINEZ, Augustin [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
NICU, Liviu [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
COCHETEAU, Emeline [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : BERGAUD, Christian; (FR).
BELIER, Benoît; (FR).
MARTINEZ, Augustin; (FR).
NICU, Liviu; (FR).
COCHETEAU, Emeline; (FR)
Mandataire : ORES, Béatrice; Cabinet Ores, 36, rue de St Pétersbourg, F-75008 Paris (FR)
Données relatives à la priorité :
01/05545 25.04.2001 FR
Titre (EN) BIOSENSOR MATRIX AND METHOD FOR MAKING SAME
(FR) MATRICE DE BIOCAPTEURS ET SON PROCEDE DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)The invention concerns a biosensor matrix comprising a substrate made of semiconductor material. It has a planar main surface (4) and cavities (8), arranged from the surface (10) opposite said planar surface (4), defining between the base (9) of said cavities and the main planar surface (4) deformable structures (40) which include at least a piezoresistive or piezoelectric element (44). The method for making such a matrix uses manufacturing techniques adapted to microtechnologies and nanotechnologies, preferably with a localised pre-amorphisation of the surface of the substrate prior to implantation of the piezoresistive elements (44), which is followed by annealing.
(FR)L'invention concerne une matrice de biocapteurs comprenant un substrat en matériau semi-conducteur. Elle présente une surface principale plane (4) ainsi que des cavités (8), ménagées à partir d'une surface (10) opposée à ladite surface plane (4), définissant entre le fond (9) desdites cavités et la surface principale plane (4) des structures déformables (40) qui comportent au moins un élément sensible piézorésistif (44) ou piézoélectrique. Le procédé de fabrication met en oeuvre des techniques de fabrication propres aux micro et nanotechnoloqies, avec préférentiellement une préamorphisation localisée de la surface du substrat avant implantation des éléments piézorésistifs (44), laquelle est suivie d'un recuit.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SI, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)